国产光刻机突破28纳米突破荷兰降价出售光刻机(进口荷兰光刻机最新消息)

2022-11-25 11:04:59 基金 yurongpawn

光刻机实现国产有哪些重要意义?

如果光刻机我们能够独立制造出来,那我们国家在高端技术上就有了一个很大的突破,不必担心西方国家对光刻机的相关技术进行封锁了。

01、光刻机只有荷兰能制造。

顶级的光刻机目前只有荷兰能够制造出来,其他国家都制造不出来,而且荷兰想要制造一个光刻机,也是很困难的一件事情,需要从全球各地购买零件,然后再利用自己的技术组装起来,因为光刻机对一些零件的精度要求很高,而这部分只有美国才能制造出来,只能是从美国进口,再加上美国本身在欧洲就有很大的话语权,所以,美国也算是把握着光刻机的命脉,美国说不让卖给谁,荷兰真的就不敢卖。前段时间美国干的事情我们应该都清楚,因为很多芯片制造厂商都要用到美国的零件,所以,美国直接让所有使用自己零件的厂商,禁止出售芯片给我们国家的某个公司,这件事情一出,真的是让一些人和公司感受到了威胁。

02、28nm的光刻机我们国家已经可以制造出来了。

在前段时间,我们国家的光刻机已经从90nm买入28nm了,这真的是很大的一个进步,对美国和一些西方国家来说,这就是一个坏消息了,他们最不想看到的就是我们国家科技发展起来。

在我们国家28nm光刻机研制出来以后,荷兰开始愿意降价卖给我们光刻机了,为什么?原因就是我们研究出来了光刻机,它们开始慌了!它们在降价后卖入可以争夺国内市场,如果你是一个高精尖技术企业,你是会选择5nm的光刻机还是28nm的光刻机?肯定是5nm的,一旦做出这样选择的企业多了, 那研制出来28nm光刻机的企业怎么挣钱?直接就被打趴下了,我们国家好不容易发展起来的科技,再一次被扼杀在摇篮中。

03、科技是一个国家兴旺发达的动力。

一个国家想要持续不断的发展下去,那就需要强大科技实力的支撑,如果没有强大的科技实力,是没有办法在世界上保持长久的竞争力的。在19世纪的中国,没有经历第一次工业革命,也没有经历第二次工业革命,但是西方国家在经历这两次工业革命后,有了一定的科技实力,蒸汽机、交通运输、电力都在发展了,而清政府呢?什么都没有,还是在用煤油灯,还是在一个皇权至上的时代,人家开着蒸汽机做动力的军舰过来了,我们还在用木船去和他们硬碰硬,我们不输谁输?正是经历了这个黑暗的时期,我们才更应该懂得科技对国家的影响。

总结:

我觉得我们可以买荷兰的光刻机,它降价卖了,为什么不买?但是买了之后,我们也不能忘记自己去研制光刻机,不能让别人握住自己的命脉。光刻机实现国产,是我们科技上一个极大的进步,已经超过世界上80%、90% 的国家了,但是我们还要更进一步,去做最顶尖的技术,站在科技金字塔的顶端!

我国光刻机有所突破,芯片市场迎来洗牌?美方对华态度如何

美方还是限制高端光刻机对华出售,我国已研究出28纳米光刻机。28纳米光刻机最精确可以生产7纳米芯片,现在美国联合荷兰跟其盟友限制出口我国28纳米以下的的光刻机。

拜登限制出口逼急荷兰,国产光刻机好消息频出,自主发展五年成型

在人类迈入高 科技 时代之后,芯片这个小小的元件地位水涨船高,小到一部手机,大到一个机器人,都需要芯片的支持才能正常工作,芯片水平的强弱直接影响着 科技 产业的兴衰。

这种元件虽然体积小,但内部结构复杂多变,其制作工艺、芯片设计都蕴含着极高的 科技 水准,没有系统的学习过这一领域的专业知识,想要涉足几乎不可能。除此之外想要制造出芯片,还有一个绕不过的难题,那就是光刻机。新来的朋友们记得点个关注,方便浏览往期视频和文章,又可接收最新消息。

一、拜登限制荷兰向中国出口光刻机

光刻机是制造芯片的核心装备,它采用的技术类似于照片冲印,能够把模板上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。虽然看起来光刻机的技术并不复杂,但因为性质特殊,对精度要求极高,其中所蕴含的 科技 水平之高,在世界范围内也仅有数家公司能够制造。

光刻机分为两种,分别是DUV光刻机和EUV光刻机。其中DUV代表着深紫外线,而EUV代表着极深紫外线,虽然仅有一字之差,但EUV光刻机在精度方面几乎碾压DUV光刻机.而光刻机精度越高,能够生产出的芯片纳米尺寸也就更小,功能也就更加强大。目前来说,世界上小于5纳米的芯片晶圆,只能通过EUV光刻机生产。

一台EUV光刻机,单单是组成零件便达到10万多颗,其中极紫外线光源生产自美国,机械部分来源于工作一丝不苟的德国,核心轴承产自瑞典,所用到的光学设备主要由日本提供,生产所用的阀门来自法国,而核心技术则掌握在荷兰的阿麦斯公司手中。

从中不难看出一台光刻机,集结了众多国家的最顶尖 科技 .而它在价格方面也十分昂贵,通常在3,000万美元至5亿美元不等。并且,目前来说,世界上只有荷兰的阿麦斯公司可以制造EUV光刻机。

不过虽然光刻机具有极高的技术含量,但其本质也仅仅是一件商品,并不能同时拥有价值与使用价值,作为商品,被用来交易便是他的宿命。早在2018年4月,我国的中芯国际便向该公司下单了一台EUV光刻机,这台光刻机最终的成交价格已经达到1.2亿美元。但巧合的是,就在阿麦斯公司已经将这台光刻机组装完毕,马上就可以交货的关键时期,工厂内却突发火灾,至今原因不明。

不过在2021年7月18日,美国总统拜登对外宣称出于美国的国家安全考虑,要求荷兰限制向中国出售光刻机。抛开其他方面不谈,单单限制商品的流通这一点,便不符合人类 社会 发展的规律,属于倒行逆施的行为。但是,在美国下达禁令之后,荷兰迫于国际压力,不得已之下,扣留了对中国的出口许可。

这样的举动,无疑会让中国与荷兰的外交关系陷入较为紧张的局面,但是,透过现象看本质,此件事情主要还是因为这段时间中国在多领域,尤其是武器领域发展迅速,使得美国拥有了危机感,不得已之下,他们只能通过极端手段遏制打压中国 科技 产业,而荷兰只是受了胁迫而已,这件事情不会对中国与荷兰的关系产生较大影响。

早在特朗普当政时期,为了阻碍中国在高 科技 领域的进一步发展,便开始限制对中国的技术出口,我们所熟知的华为公司正是遇到了核心技术卡脖子的问题,才导致如今陷入无芯可用的尴尬局面。实际上以华为内部的研发团队,完全能够满足芯片的设计要求,但是设计出芯片之后,华为公司却没有与之相匹配的能力将其制造出来,这一问题归根结底,还是光刻机闹得。

二、好消息频出,国产光刻机核心问题有望解决

在拜登政府上台之后,一改特朗普执政时期的作风,在伊核问题、退群问题上,都和特朗普的执政方针完全不同,但令人没有想到的是,对于中国 科技 方面,拜登却选择了支持特朗普的政策,持续对我国相关企业进行打压。

在拜登入主白宫还不到一个月的时候,他便派出了国家安全顾问杰克沙利文前往荷兰进行交涉,其目的就是为了限制阿麦斯和中国的合作。除了正常的外交谈判之外,美国方面甚至对荷兰进行威胁,声称如果美国不给阿迈斯提供制造光刻机的零件,整个阿麦斯公司的设备就无法运转。除此之外,拜登甚至还想要控制比利时微电子研究中心,以此来阻止中国的发展,好在他的目的没有达成,不然实在的局面必定会更加紧张。

但是对于美国的所作所为,阿麦斯的首席执行官温宁克却做出预言,他表示出口管制固然在短期内会限制中国的发展,但从长远角度出发必定会起到反作用。

自强不息,一直是中华民族最宝贵的特质之一。在建国初期,我们一穷二白,面对西方的技术封锁,中华民族在 探索 之中砥砺前行,在原子弹、核潜艇、卫星等方面,中国比西方世界慢了不知道多少年,但我们却用自己的努力与汗水将这个是差距一点一点的缩短,甚至完成反超,这种力量与信念足以令世界人民震惊!如今我国在光刻机领域遭受的困境与当年如出一辙,先辈们能做到的事,今天的中国人同样能够做到。

从经济学角度出发,市场决定生产,中国拥有14亿人口,毫无疑问中国是全球最大的芯片应用市场,中国每年进口芯片的花费高达数千亿元,芯片行业的蓬勃发展,也代表着中国的光刻机市场,同样拥有广大的前景。虽说阿斯麦在光刻机领域的地位堪比垄断,失去了中国市场对阿麦斯来说也是一个巨大的打击。

并且严格意义上来说,中国早就已经突破了光刻机技术,只是现阶段我国研制的光刻机技术仅仅只达到了中高端水平,面对DUV及以下级别的光刻机我国具有一定的生产能力,但是在高精度光刻机领域,我国依旧是一片空白。不过,如今我国的最高学府,清华大学正在深入研究EUV光源问题,研究出的SSMB光源的潜在应用之一,便是作为为EUV光刻机的光源,一旦这一展望能够实现,便意味着我国有望解决自主研发光刻机之中最核心的光源问题。

除了在核心问题上取得突破外,这段时间国产光刻机制造领域更是好消息频出。前段时间上海微电子装备有限公司对外宣称,预计在2021年底或2022年初实现28纳米精度的光刻机的量产。在国际方面,中国也着眼于国际光刻机制造领域,在力争跟紧国际研究的同时,研究面向后摩尔时代的集成电路的颠覆性技术,简单的来说就是在现有技术的基础上着眼于未来,走出一条属于中国人自己的道路,力争弯道超车。

三、五年内国产光刻机产业有望发展成型

早在美国对中国实行技术封锁之时,便有专家进行预测,中国在5年内便能实现光刻机核心技术国产化,这预测如今看来,虽然有些难度,但也并非完全不可能实现。总的来看中国拥有全球最大的市场,在核心技术方面也不断取得突破,在5年内实现最顶端的光刻机技术完全国产化可能并不现实,但如果只是中高端机型实现大规模量产,这一点并不难做到。

我国在《中国制造2025》中明确要求,在2025年之前,我国必须完成20~14纳米工艺设备国产化率达到30%的目标,并实现沉浸式光刻机国产化。从这份计划中不难看出,中国已经加大了在光刻机领域的研发。而中国人一向言出必行,只要下达计划,完成只是时间问题。

目前来说,在工业领域用处最大的光刻机主要体现在10~50纳米,其中40~50纳米级别的芯片,在市场中占据的份额更是十分惊人,虽然在精密元件之中,需要用到10纳米以下精度的光刻机,但毕竟是少数。以目前的需求来看,我国在5年内满足国产光刻机的大部分需求并不成问题。

但只有彻底攻克核心技术,才能实现我国在手机芯片等领域不在受制于人的局面,这一局面一旦形成便代表着我国彻底打破了用芯难的魔咒,届时中国的核心 科技 产业必将能够更上一层楼。

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