观察者网·大橘 财经 讯(文/吕栋 编辑/尹哲)在集成电路制造领域,光刻机被称为是推动制程技术进步的“引擎”,而光刻胶就是“燃料”。
未来几年,随着中芯国际、长江存储、长鑫存储等晶圆厂进入产能扩张期,高端光刻胶的国产化替代迎来重要窗口。
12月17日晚间,南大光电公告披露,其控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称:宁波南大光电)自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点。
“本次产品的认证通过,标志着‘ArF光刻胶产品开发和产业化’项目取得关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,为全面完成项目目标奠定坚实的基础。”公告中写道。
南大光电内部人士今天在接受观察者网采访时透露,ArF光刻胶生产线已建成,可根据客户需要量产。
受上述消息影响,创业板上市的南大光电今天高开近14%,最终收涨8%。
不过,需要注意的是,截至今年上半年,光刻胶业务还未给南大光电贡献营收。该公司坦言,ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点,后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。
最近三年,南大光电净利润增速骤降,2019年扣非净利润仅为上市前的五分之一。
公告截图
量产阶段仍存诸多风险
观察者网梳理相关资料发现,光刻胶是一种对光敏感的混合液体,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。
依据使用场景,待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板(PCB)。
因此,按应用领域分类,光刻胶又可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前,国产光刻胶以PCB用光刻胶为主,显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。
浙商证券2020年4月研报截图
作为技术难度最大的光刻胶品种,半导体光刻胶也是国产与国际先进水平差距最大的一类。
长时间以来,为满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求,光刻机不断通过缩短曝光波长的方式,提高极限分辨率。
目前,光刻机光源波长由紫外宽谱逐步缩短至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(
本次南大光电通过客户认证的光刻胶,就是ArF光刻胶。
国元证券2019年1月研报截图
南大光电表示,ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等)。
认证评估报告显示,“本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证,宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求,良率结果达标。”
南大光电认为,本次通过客户认证的产业化意义大。
“本次验证使用的50nm闪存技术平台,在特征尺寸上,线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求,孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求,该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。”公告中称。
至于为何选在50nm闪存产线验证, 南大光电内部人士向观察者网表示 ,该公司产品分别在不同客户处验证,有逻辑有存储的。因为存储的先通过,就先公告,其他的还在努力中。
不过,该人士并未向观察者网透露,公告中的客户是国内或者国外厂商。
IC光刻流程图
目前,全球光刻胶市场基本被美日大型企业垄断,中国大陆内资企业所占市场份额不足10%。
2019年,日韩贸易争端中,日本就曾通过禁运光刻胶对整个韩国半导体行业造成打击。
为支持国内企业加大光刻胶开发力度,2000年以来,我国出台多项政策支持半导体行业发展。
2006年,国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,因次序排在所列16个重大专项第二位,在业内被称为“02专项”。
公告显示,“ArF光刻胶产品开发和产业化”就是南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。
券商统计的信息显示,南大光电2017年承接的ArF光刻胶项目总投资额为6.6亿元,其中国拨资金1.9亿元,地方配套资金1.97亿元,使用上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。
该项目拟通过3年达到年产25吨ArF干式和浸没式光刻胶产品的生产规模,预计达产后年销售收入平均为1.48亿元,实现净利润0.6亿元,投资回收期6.8年(包含3年建设期),内部报酬率为18%。
截至今年上半年,光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。
该公司在公告中表示,ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。
“尤其是ArF光刻胶的复杂性决定其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善,这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”
深交所互动易截图
最近三年净利润增速骤降
在ArF光刻胶贡献收入前,南大光电营收来源主要包括MO源产品和特气产品。
2020年半年报介绍,MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料,在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用。
而电子特气是“集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中必不可少的基础和支撑性材料”。
今年5月,南大光电董事长兼总经理冯剑松在业绩说明会上称,该公司将力争实现“MO源全球第一,电子特气国内一流,193nm光刻胶成功产业化”。
上半年,南大光电特种气体业务营收1.88亿元,同比增长274.15%;MO源产品实现营收0.68亿元,同比下滑23.55%;两项业务占比分别为 71.73% 、25.82%。
事实上,最近几年,南大光电特种气体业务持续增长。2017-2019年分别贡献0.36亿、0.78亿、1.64亿元的收入,营收占比也从20.16%增长至51.82%。
与此同时,该公司的MO源业务并不太稳定,2018年产量和销量均创 历史 最好水平后,2019年该业务销售收入下滑2.87%。
2017年以来,南大光电整体营收呈增长态势,从1.77亿元增长至2019年的3.21亿元,净利润从3384万元增长至5501万元,但净利润增速从348%骤降至7.36%。
“i问财”截图
扣除非经常性损益后,南大光电2017年-2019年的净利润分别为0.2亿元、0.37亿元、0.368亿元。而登陆创业板之前的2011年,该公司还实现扣非净利润1.76亿元,是去年扣非净利的近5倍。
同期,南大光电研发投入分别为3844万元、3735万元、6585万元,占营收的比重分别为21.69%、16.37%、20.49%,占净利润比重分别为114%、73%、120%。
今年前三季度,南大光电营收大幅增长96.15%,归母净利润增长97%,但主要是出售北京科华股权等带来的非经常性损益大幅增加。
当季,该公司扣非后净利润下滑84.84%,该公司称主要是摊销股权激励成本、研发费用投入及奖金计提增加所致;经营活动产生的现金流量净额同比下滑189.52%,主要是政府补助款较上年减少及本期拨付前期收到的项目经费给联合单位所致。
三季度财报截图
本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。
关勃:全球半导体产业链自诞生至今共发生了3次较大规模的转移,分别是战后由美国到日本的转移;上世纪80年代后由美日到韩国、中国台湾地区的转移;以及2015年至今仍在进行的从全球至中国大陆的转移。
以日为鉴,当前我国光刻胶适逢机遇:
综合来看,国内光刻胶企业乘着半导体产业链国产化的大趋势,与国内晶圆厂开展紧密合作,逐步追赶和突破与国内IC制造工艺相匹配的光刻胶,绕开海外专利实现批量供应,为企业带来稳定的现金流,同时提前布局国内晶圆厂的下一代工艺,形成半导体工业正常的技术迭代节奏。
在这样的大背景之下,市场憧憬我国的光刻胶也可以弯道超车,股市中的光刻胶品种,除开头的公司, 江化微、广信材料、福晶 科技 也能迎难而上,填补国内空白。
6 月 4 日-《乘胜追击光刻胶低位精选名单》
(附精选组合名单)
近日,南大光电在互动平台表示,公司研发生产的 ArF 光刻胶已经走向客户测试阶段,其在 7nm 工艺上的应用,进一步证明国内的ArF 光刻胶技术取得了重要突破。
关于光刻胶,我们在前期的节目中也有所涉及,近期受益于相关利好消息持续走强,相关核心标的涨幅喜人,似有带领市场上攻的势头,持续性更是强于其它。
但是,错过了低位上车机会,接下来机会又该如何把握?
不得不说,我国在半导体技术上的新突破,进一步缩短我国与国外的差距,也是我国转向自主自控阶段的开始,半导体国产替代步伐加速。
从市场角度来看,光刻胶产业发展潜力巨大,尤其是国内市场。根据智研咨询数据显示,2019 年全球光刻胶市场规模达 90 亿美元,预计 2022 年将有望超过 100 亿美元。
从全球市场规模来看,中国光刻胶市场只占全球的 10%,发展空间巨大,本土光刻胶市场也迎来发展机遇。当前疫情影响全球供应链,本土沪硅产业大涨 800%,和硅片相辅相成的光刻胶应当具有上行空间;同时,中芯国际、长江存储等芯片代工厂投产也进入高峰期,未来持续的高需求也是发展的重要保障。
强力新材(300429)
公司是光刻胶光引发剂领域中的知名企业。目前光引发剂年产能超过 1300 吨,并且有 12000 吨新生产线正在建设中,是目前产能的 9 倍以上。
在 2019 年,公司 PCB 光刻胶光引发剂销量同比增 23%至 1187吨,LCD 光刻胶光引发剂实现销量 76 吨,同比增 4%,其他用途光引发剂销量 4726 吨,同比增 21%。
一季报股东人数大幅减少 14.8%,融资买入余额近一个月增加30%以上,华泰证券维持“增持”评级。
技术上来说,日线级别太极线趋势线呈现红色,股价回踩太极线趋势企稳,资金流入明显,后市有望延续上行波段。
广信材料(300537)
公司正在推进开发印刷电路板柔性基板用等用途的紫外光型正型光刻胶;公司于 2018 年 11 月与台湾广至新材料合作研发光刻胶项目,研发目标是 PCB 用光刻胶分辨率为 25μm,6 代线以下平面显示面板用光刻胶的分辨率为 3μm,半导体封装用光刻胶的分辨率为15μm。
第一批产品已经取得研发成果,并开始着手技术转移与第二批产品的研发工作。光刻胶的研发与销售拓展了公司的业务领域,丰富了公司的产品线,巩固龙头地位。光大证券维持“增持”评级。技术上来看;60 分钟放量突破蓄势平台,回抽平台企稳,整体趋势上行比较强势,后市有望延续上行一笔。
参考资料:
2020/04/28-华泰证券-强力新材-年报业绩微增,疫情致 Q1 业绩下滑
2020/05/12-光大证券-广信材料-新冠疫情拖累业绩,光刻胶项目稳步推进
本文由北京中和应泰财务顾问有限公司上海分公司 投资顾问 关勃(执业编号:A0150614050001)编辑整理。内容仅供教学参考,不构成投资建议。股市有风险,投资需谨慎。
近年来,半导体芯片产业已成为技术创新的先驱,在世界经济发展中占有越来越重要的地位。完整的半导体芯片行业包括子行业,例如硅片制造,芯片设计和制造以及芯片封装。最上游的是芯片设计公司和硅晶圆制造公司。 芯片设计公司根据客户需求设计电路图,而硅晶片制造公司则以多晶硅为原料来制造硅晶片。 芯片制造公司的中期任务是将由芯片设计公司设计的电路图移植到由硅晶片制造公司制造的晶片上。然后将完成的晶片发送到下游芯片封装和测试工厂进行封装和测试。 半导体芯片材料 是指用于硅晶片制造,芯片制造和封装的电子化学品的总称, 包括硅晶片,光掩模,光刻胶,光刻胶辅助设备,层压基板,引线框架,键合线,模塑化合物,底部填充剂,液体密封剂等等 ,因此,半导体芯片材料是电子工业的广义上游,并在芯片制造和其他下游应用场景中发挥着重要作用。
雅克 科技 最初的主要业务是磷酸酯阻燃剂的研发,生产和销售,上游原料是石油化工产品,例如硝酸盐,环氧丙烷和氯氧化磷。
2016年,公司以收购华飞电子为起点,开始积极转型进军半导体芯片行业;
2017年与韩国Foures成立了雅克·福瑞(Jacques Furui),并扩展到芯片设备方面,生产用于输送前体材料和其他化学品的LDS输送系统;
2018年与江苏(UP Chemical)、科美特合并,开始经营前体/ SOD和氟化特种气体,进军光刻胶行业运营TFT-PR和光刻胶辅助材料,
到2020年,对LG 化学彩胶业务的收购进一步对光刻胶领域发力,并成为覆盖前体/ SOD,氟化特种气体,包装用硅粉和光刻胶的半导体芯片材料平台企业;
公司迄今为止的发展涵盖了半导体芯片薄膜光刻,沉积,蚀刻和清洁的核心领域,下游客户包括世界知名的半导体芯片制造商,如 SK海力士,三星电子,台积电,中芯国际,长江存储等 ,迅速成为了国内半导体材料“平台型”公司。
在半导体芯片材料领域,由于技术壁垒高,长期的研发投入和国内企业的积累不足,我国的半导体芯片材料大多处于国际分工的中低端领域,大部分产品的自给率低于30%,其中绝大多数产品是技术壁垒较低封装材料;在晶圆制造材料领域,国产化的比例较低,主要依靠进口,尤其是高端材料的国产化率小于10%。例如,12英寸大硅片和高端光刻胶基本上都依赖进口,并且进口替代品的空间非常大, 晶圆制造材料的种类很多,其中硅晶圆占37.3%,是最大的类别,其次是电子特殊气体占比13.2%,光掩模12.5%,光刻胶和辅助材料12.2%。
光刻是芯片制造中最重要的部分 ,这是将芯片设计图案从掩模转移到硅晶片,然后执行下一步蚀刻的过程, 成本占芯片制造的30%,时间占50% 。这是集成电路制造中最耗时,最困难的过程。在光刻期间,光刻胶被施加到硅晶片上,紫外线曝光后,光刻胶的化学性质发生变化,然后在显影后去除曝光的光刻胶,以实现从掩模到硅晶片的图形转移, 光刻胶是光刻工艺中的重要消耗品,它的质量和性能直接影响芯片生产线的产量,它是半导体芯片制造的核心材料之一 。
面板光刻胶可分为LCD胶和OLED胶。其中,用于LCD的光刻胶可分为TFT-PR,彩色光刻胶和触摸屏胶。 2019年,公司参股了江苏科特美新材料有限公司(韩国 Cotem)10%的股份。 Cotem的主要产品是TFT-PR和光刻胶辅助材料显影剂,清洁液,BM 树脂等。雅克 科技 通过参股参与了韩国 Cotem的生产和经营管理,并与之建立了长期的业务合作伙伴关系; 2020年2月公司成功收购LG 化学的彩色光刻胶业务,作为LCD色浆和OLED光刻胶的主要供应商之一,LG 化学在业界享有很高的声誉,技术先进,市场占有率很高 。收购后,公司成为LG Display 的长期供应商。从收入的角度来看,LG化学彩色光刻胶2019年实现收入8.65亿元,以国内LCD光刻胶市场为基准, 雅克 科技 有望成为国内LCD光刻胶的第一梯队的龙头企业,通过收购,LG 化学的量产和先进技术生产的光刻胶将在国内市场上具有很大的竞争力,有利于雅克 科技 迅速抢占国内市场份额。
第三季度,公司将其子公司韩国斯洋和韩国COTEM纳入合并报表范围,从而使公司的光刻胶业务带来营收; 2020年前三季度,营业收入为16.83亿元,同比增长23.72%;归属于母公司所有者的净利润3.44亿元,同比增长85.17%;
A股上市公司半导体芯片新材料龙头股雅克 科技 处于中长期上升趋势中,整体涨跌结构趋于稳定,机构阶段性多空运作,据大数据统计,主力筹码约为63.16%,主力控盘比率约为55.25%; 趋势研判方面可以将25日均线与40日均线组合作为多空参考。
作为一个投资者,一定要有强大的学习能力,来接受各种知识,最近在A股市场上光刻胶概念火了,那么光刻胶到底是什么呢?这篇文章就跟大家聊聊这个话题。
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。
1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。
光刻胶可分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶、PCB用光刻胶等,其技术壁垒依次降低。相应地,PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的,LCD光刻胶替代进度相对较快,半导体光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距最大。
PCB光刻胶,技术含量较低。全球PCB光刻胶市场规模在20亿美元左右,中国市场规模占比达50%以上。随着PCB光刻胶外企东移和内资企业的不断发展,中国已成为全球最大的PCB光刻胶生产基地。
LCD光刻胶的全球供应集中在日本、韩国、中国台湾等地区,海外企业市占率超过90%。彩色滤光片所需的高分子颜料和颜料的分散技术主要集中在Ciba等日本颜料厂商手中,因此彩色光刻胶和黑色光刻胶的核心技术基本被日本和韩国企业垄断。
综合以上信息,其实光刻胶是一个造芯片绕不过去的产品,希望这篇文章能给大家带来帮助,感兴趣的投资者们一定要多多的了解学习!
,ArF光刻胶是市场需求的主流,占比约42%。而KrF则多用于8寸晶圆片,占比约22%。
半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类,分别是紫外全谱(300~450nm)、G线(436nm)、I线(365nm)、深紫外(DUV,包括248nm和193nm)和极紫外(EUV),
相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。通常来说,波长越短,加工分辨率越佳。
目前半导体用光刻胶,主要分为5个种类:g线光刻胶,i线光刻胶,KrF光刻胶,ArF光刻胶和EUV光刻胶。