中国28nm光刻机真假对比（中国28纳米光刻机是真的吗）
中国28nm光刻机真假对比（中国28纳米光刻机是真的吗）
对于28nm光刻机事件有着不少的质疑声，怀疑会不会是骗钱项目。目前消息并没有被证实。
老美对华为的芯片封锁，让国内大批网友开始持续关注国内芯片行业的发展。希望华为能够顺利渡过难关的同时，也希望我国的芯片技术能够快速壮大和发展，把高科技技术产业的命脉掌握在自己手里。
近日网上爆出荷兰阿斯麦将停止向中国出售可以生产28nm的EUV光刻机的消息，毫无疑问这是阿斯麦在被老美威逼利诱下作出的决定。
事实上，高新技术产业迅速发展下的中国对于28nm芯片的需求量十分巨大，这让阿斯麦始终把中国作为重要的大客户，来自中国的的订单在阿斯麦的营收中占有相当大的比重，而切断与中国的合作这对于阿斯麦来说无疑是“自断一臂”的做法。
曾表示虽然国内目前有许多企业已经掌握了比较成熟的28nm制作技术，但是在光刻机的研发制作方面技术还不够成熟，短期内国产光刻机的产能无法满足国内市场的需求。
一、热点消息
今年，我国半导体产业已有不少好消息陆续传出。
被提及最多的光刻设备方面，近来有消息称上海微电子即将于
2021年交付首台国产的 28nm 光刻机。
再来看，之前的美国的制裁吧：
5月12日，美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件，要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路，同时启用“无限追溯”；5月15日，美国商务部产业安全局将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日，要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。
二、形势不容乐观，但是28nm够用么？
很多人默默地打开了自己刚刚购买的新电脑
查看配置，处理器选项。
什么！才28nm，老子的锐龙处理器都7nm了，
停停停，先听我说完
或许在许多人看来28nm制程工艺相比7nm还相差甚远，
但实际上是一个分界点，
像是物联网、家电、通信、交通、航空航天等领域，已能满足
那就是满足了市场上的大部分需求。
从2019年全球晶圆代工产能分布，
包括我国每年进口的3000亿美元芯片中也可以看到，
28nm以上制程才是主流。
所以，这意味着
一旦完全掌握28nm芯片制造技术，我们很大程度上就能满足国内发展所需。
现在知道了吧，这比自己玩得爽的手机、电脑可不一样。
三、我们的芯片大多来自哪里？
1、我们拿货真多，却不能自给
根据第三方数据，仅2019年我国的芯片进口额就突破千亿美元，
作为全球最大的芯片进口国。
但是，我国每年的芯片自给率却不足30%。
2、谁掌控了这芯片
为了改善这一局面，不少企业投身芯片行业，但在芯片制造领域却很难有突破，
其中，最最主要的拦路虎，就是大BOSS“光刻机”
而在光刻机领域，荷兰ASML是当之无愧的巨头。
在华为被接连的芯片被动挨打中，他们俩的名号也算了普及到很多人了。
全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML ，
大家记住哈~它是唯一的，
而且还每年限制产能，所以想给谁，想多少钱给，它说的算。
四、我们得自己造呀
1、放心，已经再造了
今天只说他们家。
好在，经过十余年的发展后，我国在光刻机领域也诞生了一位新巨头。
上海微电子装备有限公司，2002年开始生产研发光刻机
在短短18年里，他们创下了3200项专利，
成功打破技术封锁，造出中国最先进的光刻机，
目前，已经实现90nm光刻机的量产。
哎！反正你们看不上，
那不如我再多说一点。
2、那什么水平？
只相当于荷兰ASML15年前的水平！
但是，
ASML光刻机的技术虽然先进，但集结了以美国为首的多国结晶，
例如美国的光学设备、德国的蔡司镜头。
多达5万多零部件，也大多依赖进口。
上海微电子，生产的光刻机设备却是自主研发和创新。
民族热情高涨，来点掌声！
3、怎么解读这28nm
对内：政府的扶持（列入国家863重大 科技 攻关计划，国家重大 科技 专项02的项目之一），
对外：《瓦森纳协定》对华高 科技 出口管制。
与ASML的众星捧月不可同日而语。
公司高层在接受采访时表示：
“2007年，当光刻机的第一束光曝出来时，我们都热泪盈眶。”
“没有人才团队，没有技术积累，没有配套的供应链。
西方国家对这一技术限制很多。”
目前，团队还在超1000个技术与管理人才的共同努力下，全力追赶ASML，
而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻，请多给一点时间！
虽然即便是28nm技术。
但倘若28nm沉浸式光刻机可顺利交付，
这将把我们的芯片事业推进到一个崭新的高度。
未来可期，未来可待！
光刻机对于芯片生产的重要性不言而喻，为攻克芯片卡脖难题，国内掀起一股自研光刻机的热潮。殊不知，光刻机，尤其是EUV光刻机的制造难度，已经超乎绝大部分人想象。

公开图纸也不怕山寨
在全球光刻机市场，ASML无疑是霸主般的存在。针对奇特企业仿制ASML光刻机的问题，ASML总裁Wennink曾公开回应，高端的EUV光刻机永远不可能被模仿。
此前ASML甚至还放出豪言，称即使把图纸公开，也不怕EUV光刻机被山寨！这不禁令人疑问，EUV光刻机到底有多难制造？ASML又何来的自信？

要知道，生产EUV光刻机需要依赖的并不是单一的技术，而是需要各学科和应用工程的交叉。作为半导体领域最为复杂的核心设备之一，EUV光刻机有超过10万个零件，纵使是行业霸主ASML，也需要数千家公司提供帮助。
因此，EUV光刻机的自主研发，绝不是国内半导体领域在短时间内可以攻克的难题。而ASML多年积累的系统集成优势，也是其可以不畏惧公开图纸的主要原因。

中国院士实话实说
芯片国产化大潮之下，关乎攻克芯片生产核心设备呼声越来越高，光刻机自然也位列其中。在国内，关于是否要投入大量资源研发EUV光刻机的讨论一直都在。
在2021数博会上，吴汉明院士专门针对此事发声，表示仅靠一个国家就生产EUV光刻机的想法并不现实，这无疑给国内不少自研EUV光刻机的支持者“泼了冷水”。

不过笔者却认为，吴汉明院士所说属于事实。EUV光刻机的每一个零部件，都已经达到了行业内的顶尖水平，比如美企提供的光源、德企提供的光学系统等，仅凑齐这些业内顶级资源，便已是难上加难。
且EUV光刻机的研发需要较长的周期，国内的技术水平、人才储备等本就与国际巨头有着较大差距，冒然进行EUV光刻机的研发，也只能撞个头破血流。

因此，脚踏实地、循序渐进才是国产光刻机实现进步的主要途径。目前，上海微电子已经在着手研发28nm光刻机。
虽然28nm光刻机与ASML最新设计的1nm光刻机有较大差距，但在国内企业不断扩产成熟工艺制程的今天，中低端光刻机研发的稳打稳扎，或许更具意义。
随着上海微电子等国内企业的持续努力，国产光刻机的性能将不断提升，在高端领域取得突破也不是不可能。
