1纳米的光刻机(1纳米光刻机多少钱一台)

2022-11-29 23:28:44 基金 yurongpawn

光刻机是干什么用的?一台价值30亿

光刻机是制造芯片的必备设备。芯片是干什么用的?可能有人会嘲笑这个问题,说它太初级,太简单;是的,有些人可能不知道芯片的用途,但世界上几乎每个人都在使用芯片。这不是夸张,是事实!

芯片的用途:手机、高铁、汽车、电网、家用电器、医疗设备、各种自动化设备等。

芯片的功能:执行运算,处理各种任务,输出数据和指令。芯片这么厉害,怎么做出来的?使用的设备是本文介绍的重要机器——光刻机。

现在很多人说,当年造光刻机比造原子弹还难。是的,这绝对是真的。

现在信息发达;科技进步;先进的设备;有很多专业人士有高深的知识,却做不出光刻机。难度显而易见。

这里有个问题要说明一下:中国也能做芯片,但是质量和规格跟不上当今尖端技术的需求。

今天我们国家能生产16纳米规格的芯片,和国际先进水平差距很大。(有消息说中国已经能做出7 nm光刻机,但没有得到证实。)

荷兰ASML公司据说开发了1纳米芯片掩模对准器;台湾的TSMC和韩国的三星集团争相购买。

谁拥有了设备,谁就能生产出最先进的产品,谁就能占领世界高端芯片市场,就会有大把的钱可赚,都要抢着买。

据说这样一台光刻机设备要花30亿人民币。

世界上生产光刻机最权威、最领先、最有实力的企业是荷兰的ASLM公司。

这个公司不是一兵一卒,有美国和欧盟的大力支持。

光刻机的生产组件来自多个国家,有一万多个组件。

还有另外两家日本公司也生产它们:佳能和尼康。正如你所看到的,这两家公司是世界知名的公司,曾经生产照相机和录像机。但是技术落后于荷兰公司。

1nm光刻机意味着什么

目前荷兰ASML公司正在研发制造全新一代EUV光刻机,其被命名为NA EUV光刻机,而NA更是高达0.55,相比现有的NA值为0.33的EUV光刻机而言,有明显的提升。全新一代光刻机的NA值提升,意味着光刻机精度更高,可以生产制造更小面积的芯片,甚至可达1nm。

第一代光刻机是多少纳米的

笫一代光刻机是436纳米。一切光刻机的核心零件是围绕光源来的,根据光源的改进,光刻机一共可以分为5代,分别是最早的436纳米光刻机,然后第二代是365纳米波长,第三代是248纳米,第四代是193纳米波长,第五代是13.5纳米波长的EUV光刻机。

1纳米的光刻机(1纳米光刻机多少钱一台) 第1张

光刻机的极限在哪里?

2020年3月28日,中国计算机学会做了一个 CCF YOCSEF 技术论坛:量子计算机离我们还有多远?的主题,主题上 张辉(合肥本源量子计算 科技 有限责任公司副总裁,中国科学技术大学博士)做主题演讲时候有提到,3nm是经典计算机的工艺极限,就是因为量子的问题。本源量子是国内中科院旗下的做量子计算机方面的公司。

之前中芯国际副总曾经在喜马拉雅的音频节目中回答过这一提问,他说1nm的光刻机工艺并不是技术上难以逾越的门槛。只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺,但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了,只是采用直写技术的硅片没有商用价值,只能制作掩膜版用,所以说3nm更不是极限了,那么光刻机的极限在哪里呢?接着往下看。

光刻机的极限

其实光刻机极限已经快到了,因为硅这种材料的极限在1纳米左右,如果想要超越1nm,那就得换材料了,但是目前地球上已经发现的材料中,没有比硅更适合的了,所以末来十年都很难超越1nm工艺,除非科学家能发现一种新材料,当然,这种可能很小。

超越1nm很难,那么达到1nm呢?目前要想达到1nm,目前当芯片内部线宽窄到3nm,电路中用于导电的铜线之间的间距太小,就会发生短路,所以说达到1nm都很难,只能寄希望于量子技术的突破了。

荷兰ASML(阿斯麦)公司的现状

在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。

根据ASML之前的报告,预计2020年将会交付35台EUV光刻机,到2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。

荷兰ASML(阿斯麦)公司的极限

与之前的光刻机相比,ASML新一代光刻机的分辨率将会提升70%左右,可以进一步提升光刻机的精度,毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。不过新一代EUV光刻机还有点早,至少到2022年才能出货,大规模出货要到2024年甚至2025年,届时台积电、三星等公司就可以考虑3nm以下的制程工艺了,所以说到2022年光刻机的精度有望达到3nm,要想达到1nm,估计要到2030年了。

总结

总结来说1nm应该是光刻机精度的极限,预计要10年左右才能达到这一目标,我是小熵,你有什么看法?快到下方评论区留言吧!欢迎关注,持续为您答疑解惑。

在紫外光谱。不同的材料有区别。

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