突破光刻机技术（中国光刻机大突破）
突破光刻机技术（中国光刻机大突破）
实话实说， 几乎没有可能短期内攻克光刻机。
现在荷兰ASML公司已经通过参股和出让股权的方式，把光刻机产业链的上下游全部变成了利益相关的团体。此时，光刻机行业实际上已经变成了一个寡头垄断的形式，就连光刻机行业的老二和老三，也就是日本的佳能和尼康都已经差不多出局不带玩了。作为还没有资格入局的国产光刻机厂商，想短时间追上去，那就是在说神话故事了。
目前，ASML公司通过积极参股的办法，变成了全球光刻机关键零组件提供商的大股东， 比如德国光学元件巨头蔡司就已经被ASML参股。这样以来，关键零组件提供商就已经和ASML站在一个战壕当中了。此时，任何一家光刻机厂商想要获得高质量的光刻机零组件，只怕都要过ASML这一关。在关键零组件上技不如人的结果，就是拖累整个光刻机的性能。ASML的这个计策不能不说很高明，直接“断别人根”的那种高明！
其次，所有最先进的芯片代工厂，也就是光刻机的用户，都已经变成了ASML的大股东，台积电、三星电子和英特尔都是ASML的关键大股东。 此时，ASML也就拥有了光刻机最大的市场，给自己建起来了最厚的护城河。因为光刻机本来就属于投资巨大，但市场规模有局限的一个市场。整个市场可能也就能养活一个高端的光刻机厂商，现在ASML基本上已经完成了市场垄断，后进的光刻机公司，基本上就不可能养活自己，这就是ASML的策略，把大客户变成了自己的大股东，非常成功的策略。
就不用说什么技术了，只从市场的角度就能看出，在光刻机行业上，其他厂商基本上已经没有太大希望入局了。因为投进去就是赔钱的行为，技术提高得越快，越能生产高水平的光刻机，这个后进的厂商就会越赔钱！这种明显是赔钱的行业，我想不出来哪个公司会勇敢地一直赔下去，哪怕是可以长期拿政府补贴，也是要看到成绩的，但很明显，在光刻机领域内将是长期看不到成绩。
另外，光刻机是几千个零组件组成的复杂设备。任何一个零组件水平不够，都会直接影响光刻机性能。 但现在关键零组件已经被ASML参股，使得中国获得这些关键零组件的机会锐减。因此，光刻机突破就要下沉到零组件层面的突破了。这就更需要花费时间了，甚至是无法想象的花费时间，但就这一个单点的障碍就卡住了整个光刻机的进度。此时，光刻机的进度就完全不可控了。而且，有时候，这种卡壳是用钱无法解决的。
至此，也就解释了光刻机的突破，从时间上来看，根本就是个无法预测的事情了！
高端光刻机技术中国已经攻克了。
攻克了技术离量产还需要时间。
光刻机技术不算是前沿技术但很麻烦周期长。
技术是周期短的带动周期长的。
中国光刻机技术较其他技术进步慢些是正常的。
搞 科技 不能急于求成要稳中求进。
中国不要学荷兰阿斯麦将不成熟的技术拿出来急功近利。
中国人做事情做就要做好。
中国人做光刻机是要做好整体生态打通产业链。
很难，至少需要十年
大家都了解，现阶段在芯片行业的有关技术上，我们国家就是卡在了那一台顶尖的光刻机设备上，欧美国家对于该设备的技术一直都是防备有加，现阶段都还没哪一个国家可以独自造出光刻机，表面上是由荷兰的ASML企业生产制造的，但事实上它们的技术来源于数百家的企业技术的结合，而在其中美国技术层面占有了较大的份额，这是为什么我们不能得到顶尖光刻机的关键原因。
当然，就现阶段的状况看来，要想得到他们技术最顶尖的光刻机，大概率是不太可能的。但这也间接性地促使了中国半导体行业的发展，在中国 科技 人员的勤奋努力下，中国芯也开始了自己的发展之路。现阶段在芯片的产业链上，也拥有了开创性的进度，在有关技术性层面已经获得了重大的进展。除华为公司的5纳米技术芯片设计工艺，现阶段的芯片行业也有许多喜讯传来。
在不久前，中国北斗成功地提升了22 nm的精准定位芯片，而现阶段所选用的大部分都是40 nm的工艺，换句话说，在完成批量生产后，它将在技术上领先美国的GPS至少两代之上。不但如此，上海℡☎联系：电子企业也带来了喜讯，他们也成功地提升了22nm的光刻机技术。
虽然技术上，与欧美国家等国仍有很大的差别，但针对中国半导体领域之中，确是一次很大的提升，我们与发达国家的差别已经逐渐变小，并且现阶段我们在半导体材料行业的产品研发的幅度也在不断提高，追赶他们的脚步也会变得越来越快。
在现如今的智能化的时期，芯片是一切高 科技 公司而言都是最关键的存活定心针，而如今，如果没有高档芯片作为支撑点，也就代表着将来在尖端 科技 领域不太可能获得多少成绩。可是由于我国欠缺可以制造芯片的顶尖的光刻机，也造成了我们在芯片生产制造层面，并没有那么成功。
当美国的芯片限令起效后，几乎我国的半导体企业也深刻感觉到自身的不足，国家如今也在全力帮扶半导体企业，将大量资金投入到很多产品研发中。在国家的重视下，坚信许多半导体企业都能靠着坚实的后盾，朝着自主创新的唯一目标前进，在这样的状况下，坚信中国半导体行业能迅速提升，再度令欧美的那些国家另眼相看。
近期有媒体报道了我国国防 科技 大学研究团队，研发出一款用于模拟量子行走的可编程硅基光量子计算芯片。那么，是否我国已经在量子计算方面走在了世界前列呢？量子计算机还需要多久才能够制造出来呢？
实际上，关于中国科学家研制出量子计算机的消息一直不绝于耳。早在2017年，就有媒体报道过中科大潘建伟教授联合浙江大学团队，成功构建了首台光量子计算机。
2018年军事科学院的强晓刚博士（上图）团队，又研发出集成超过200个光量子器件，可实现特定领域计算的光量子计算机。
而前不久，潘建伟教授（上图）的团队又构建出76个光子的量子计算机 “九章” ，该技术甚至超过了谷歌，成功实现了量子霸权。
不过目前这些 所谓的“量子计算机”其实还不能叫做计算机，最多只能称之为量子模拟器 ，只能进行特定领域的计算，因为逻辑编程的问题还没解决。
所以下一步研究的重点就是量子门，也称作 量子逻辑门 。目前中美在量子计算领域其实是走的两条不同的道路。美国研究的是超导量子计算方案，中国研究的则是光量子计算方案。
光量子计算机使用光子来编码量子比特，通过对光子的量子操控及测量实现量子计算。而量子门，是量子计算的基础，类似传统芯片里面的逻辑门。 只有实现了量子门的操作，才能通过算法实现量子计算的逻辑编程。 而实现了逻辑编程，才能说它是一台真正的量子计算机。
2021年2月26日，强晓刚博士的团队在《science advances》发表了论文 《硅光子量子行走处理器上实现图论问题的量子算法求解》 ，介绍了他们研发出的一款用于模拟量子行走的可编程硅基光量子计算芯片。
所谓 “量子行走”（上图） ，是量子的一种随机特性，当量子受到叠加、纠缠、干涉等效应的影响，就会随机地向左、或者向右位移。
而研究人员通过对量子行走的控制，实现完全的可编程性。比如，研究人员借助该芯片，通过编程求解，在292个不同图像上实现了100个量子行走的时间步骤模拟（上图）。
而这种硅光子芯片， 采用CMOS兼容硅光子学方法制造 （上图）， 目前国内现有的技术就可以实现制造，理论上可以绕开光刻机的限制 ，因此潜力巨大。
不过目前对可编程光量子芯片的研究还处在非常初级的阶段，距离真正的实用和生产还有相当一段时间。我们相信中国科学家的实力，也许在芯片领域的弯道超车为时不远了！
众所周知，光刻机是生产芯片的必要设备；虽然说一颗小小的芯片看上去只有指甲盖大小，但是在芯片的内部却含有上亿个晶体管线路，想要完成芯片的生产，靠人眼很显然是无法完成的，而光刻机利用极紫外光源等技术就可以轻松的完成芯片的生产；目前全球领先的光刻机技术几乎都被荷兰ASML公司所垄断，随着市场需求的不断增加，也让荷兰ASML公司赚得是盆满钵满！
光刻机有钱也买不到
作为光刻机领域得分霸主企业，ASML公司的手中也掌握着很多先进的光刻机生产技术，其生产的EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备，依靠着EUV光刻机，台积电和三星都已经实现了7nm和5nm芯片的大规模量产；虽然说一台先进的EUV光刻机的售价高达10亿，但在市场上依然是供不应求的，而且有钱也并不一定能买到EUV光刻机！
ASML光刻机出货受限
我国 科技 企业很早就向ASML公司预定了一台EUV光刻机，但一直到现在也没有发货，而这一切都是因为ASML公司生产的光刻机核心技术中含有美国技术，所以ASML公司光刻机的发展也需要受到美国的限制；值得一提的是ASML公司在老美的要求下，还将总部搬到了美国市场办公，这也将更加限制住ASML公司生产的EUV光刻机的出货！
美专家：ASML的时代正在结束
要知道，老美在多次修改芯片规则以后，也导致全球芯片市场都出现了短缺的情况，这一次全球市场的“芯片荒”也直接让大家都认清了老美的真面目，并意识到了发展半导体产业的重要性，所以中国、日本、欧盟都国都在大力的发展自主芯片产业链，并加快了对光刻机技术的突破，对此美专家也表示：ASML的时代正在结束！美专家之所以这么说，主要还是因为有以下几方面的原因！
光刻机技术加速突破
首先，ASML公司在相关规则的限制下，一直都无法自由出货，这将严重的影响ASML公司在全球光刻机市场上的发展，这也将直接倒逼着大家都开始加速研发光刻机的脚步，其中日本的佳能和尼康这两个老牌的光刻机巨头企业已经宣布将重新进入光刻机领域发展，最快将在2023年研发出一台先进的3D光刻机，另外，还有俄罗斯也正在计划研发先进的光刻机技术，并使用比ASML公司所生产的EUV光刻机使用的极紫外光源波长更短的X射线来研发光刻机；可以说日俄所研发的光刻机技术都是要比ASML公司的光刻机技术更加先进的！
另外，还有台积电、三星、苹果等芯片厂家也在加快对封装工艺技术的研发，想要以此来摆脱对台积电已经ASML公司光刻机的依赖，在先进封装工艺技术的加持下，苹果已经利用重叠技术将两块芯片给封装在一起，并实现了性能的超越，而我国的华为也正在研究这一重叠技术，有了这一技术以后，那么也技能有效的降低对ASML公司EUV光刻机的依赖！
最后，新的芯片技术和材料也正在加速发展中，让EUV光刻机的时代也正在逐渐走向结束；要知道，现在的半导体芯片的发展都是需要遵循摩尔定律的，当达到了1nm以后就逼近了物理极限，所以科学家也一直在研发新的替代技术和材料，其中光电芯片就已经成为了很多国家 科技 团队所研发的重点，只要下一代芯片技术取得突破，那么依赖于光刻机的半导体芯片也将被逐步淘汰；所以综合来看，在未来的芯片市场上，光刻机不会再那么的重要，而ASML公司也不会再一家独大，正如美专家所说：ASML的时代正在结束！
