光刻胶量产验证后多长周期可以通过验证（光刻胶研发周期）
光刻胶量产验证后多长周期可以通过验证（光刻胶研发周期）
1.前验证属于新产品首次大生产或者新设备首次投产，要验证大生产工艺是否具有稳定性，所以应该挑战一些参数的极限范围去验证，这在FDA工艺验证指南中属于第一阶段即：process
design，前验证的产品需要三批验证结束后方可放行；
2.而同步性验证在国内是指周期性验证，即很多企业规定工艺验证两年一次或者五年一次，这样的验证只是例行验证，所以没有必要进行参数挑战验证，这种验证三批产品可以逐批放行，在欧盟工艺验证指南中叫做traditional
process
validation；
3.FDA现行工艺验证指南中所提到的concurrent
process
validation（同步验证）和国内所讲工艺验证有大不同，FDA指的是一些特殊产品，如孤儿药品，在首次大生产验证时，三批验证批次可以逐批放行（和前验证的概念相同，只是放行不同、风险不同）
无强行的规定，一般在你设备大修或者说一段时间内，设备的参数偏离较大，就需要进行再验证了。公用系统也是。其实现在强调的是持续性的验证，也就是说，我在生产时设备的使用，我也是对设备的一个验证。你在制定文件时，可以说1年进行一次。也可以2年一次
CB体系认证如何做，为您详细解析！
1.为什么要进行CB认证
第一点，申请CB认证主要的好处主要在于方便转换为国内外各种认证要求如VDE、GS、UL、CU、SASO、澳洲RCM还有中国CCC等认证。
第二点，CB认证和报告的公信力比较高，也可以直接得到如东南亚等许多国家或地区买家的认可。
第三点产品出口CB体系内的成员国，只需提供CB认证，外加该国规定标准的一些差异化的测试，就可以很容易拿到该国的认证证书，非常省时间省钱！
2.CB认证简介
CB体系(电工产品合格测试与认证的IEC体系)是IECEE运作的-个国际体系，IECEE各成员国认证机构以IEC标准为基础对电工产品安全性能进行测试，其测试结果即CB测试报告和CB测试证书在IECEE各成员国得到相互认可的体系。
二、CB认证流程
1.CB认证的产品范围主要包括：电池、光伏、能效、电磁兼容、电动玩具、工业自动化设备、电动车辆、电线电缆类、家用电器类、照明设备类、信息技术和办公用电器设备、电子娱乐设备、电动工具类、低压大功率设备、安装附件及连接装置、整机保护装置、器具开关及家用电器控制器、电容器、安全变压器等。
2.CB常见测试标准
1）IEC60950标准，适用产品： 移动电源、无线充、耳机、数据线；
2）IEC62133标准，适用产品： 电池包、电池、电芯。
3）IEC62368标准，适用产品：音视频、信息技术类产品。
4）IEC60598标准，适用灯具类。
3.CB认证流程
1）资料及样品审核；
2）正式开案；
3）测试；
4）报告编写；
5）递交发证；
6）CB转IECEE注册；
7）COC货物清关。
认证周期一般3-4周！
4.CB认证资料
1.申请表（申请商信息、制作商信息、产品信息三大块）；
2.英文版产品说明书（需标明产品最大使用环境温度）；
3.英文版产品规格书；
4.英文版电路原理图；
5. 英文PCB LAYOUT;
6.关键元器件规格书；
7. 英文版CDF关键元器件清单表；
8.英文Bom List;
9．CB标签（包括产品名称、型号、参数、MADE IN CHINA、Logo、商标）；
10.其它技术资料（产品提供后评估）。
三、CB认证注意事项
1）申请CB认证时，需告知要考虑列入报告的国家，以便测试时把相应的国家差异考虑进去；
2）移动电源申请CB时，如果产品带有灯珠，需要加做IEC62471；
3）申请CB认证时，如果后续需要做IECEE注册，一定要确认申请商和制造商的信息（IECEE注册证书上只会体现制造商/进口商的信息）；
4）CB转IECEE注册中的每个签字文件注意要用公司letterhead的信签纸；
四、CB认证其他补充知识
CB认证成员国全球共有53个国家，包括了所有中国机电产品的主要出口国。
阿根廷、澳大利亚、奥地利、巴林、白俄罗斯、比利时、巴西、保加利亚、加拿大、中国、哥伦比亚、克罗地亚、捷克、丹麦、芬兰、法国、德国、希腊、匈牙利、印度、印度尼西亚、爱尔兰、以色列、意大利、日本、肯尼亚、韩国、利比亚、马来西亚、墨西哥、荷兰、新西兰、挪威、巴基斯坦、波兰、葡萄牙、罗马尼亚、俄罗斯、沙特阿拉伯、塞尔维亚、新加坡、斯洛伐克、斯洛文尼亚、南非、西班牙、瑞典、瑞士、泰国、土耳其、乌克兰、阿联酋、英国、美国。
希望以上对您有帮助，如果回答对您或其他路过的朋友有帮助，望采纳和点赞呦，十分感谢~
同意楼上的，再验证周期自己文件定，根据你验证的对象的具体情况，比如水系统一年，设备确认的2年等等。再验证可采取多种形式，一般工艺的，我们用回顾性的，设备的则是运行确认和性能确认，可以灵活一点。
如果是厂房、设备设施、共用系统、工艺参数发生变化，影响产品最终质量时，应及时做工艺验证。若其他没变化，三年做一次就够啦
观察者网·大橘 财经 讯（文/吕栋 编辑/尹哲）在集成电路制造领域，光刻机被称为是推动制程技术进步的“引擎”，而光刻胶就是“燃料”。
未来几年，随着中芯国际、长江存储、长鑫存储等晶圆厂进入产能扩张期，高端光刻胶的国产化替代迎来重要窗口。
12月17日晚间，南大光电公告披露，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司（下称：宁波南大光电）自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证，可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点。
“本次产品的认证通过，标志着‘ArF光刻胶产品开发和产业化’项目取得关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面完成项目目标奠定坚实的基础。”公告中写道。
南大光电内部人士今天在接受观察者网采访时透露，ArF光刻胶生产线已建成，可根据客户需要量产。
受上述消息影响，创业板上市的南大光电今天高开近14%，最终收涨8%。
不过，需要注意的是，截至今年上半年，光刻胶业务还未给南大光电贡献营收。该公司坦言，ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点，后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。
最近三年，南大光电净利润增速骤降，2019年扣非净利润仅为上市前的五分之一。
公告截图
量产阶段仍存诸多风险
观察者网梳理相关资料发现，光刻胶是一种对光敏感的混合液体，可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。
依据使用场景，待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板（PCB）。
因此，按应用领域分类，光刻胶又可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前，国产光刻胶以PCB用光刻胶为主，显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。
浙商证券2020年4月研报截图
作为技术难度最大的光刻胶品种，半导体光刻胶也是国产与国际先进水平差距最大的一类。
长时间以来，为满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，光刻机不断通过缩短曝光波长的方式，提高极限分辨率。
目前，光刻机光源波长由紫外宽谱逐步缩短至g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV(
本次南大光电通过客户认证的光刻胶，就是ArF光刻胶。
国元证券2019年1月研报截图
南大光电表示，ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等）。
认证评估报告显示，“本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求，良率结果达标。”
南大光电认为，本次通过客户认证的产业化意义大。
“本次验证使用的50nm闪存技术平台，在特征尺寸上，线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。”公告中称。
至于为何选在50nm闪存产线验证， 南大光电内部人士向观察者网表示 ，该公司产品分别在不同客户处验证，有逻辑有存储的。因为存储的先通过，就先公告，其他的还在努力中。
不过，该人士并未向观察者网透露，公告中的客户是国内或者国外厂商。
IC光刻流程图
目前，全球光刻胶市场基本被美日大型企业垄断，中国大陆内资企业所占市场份额不足10%。
2019年，日韩贸易争端中，日本就曾通过禁运光刻胶对整个韩国半导体行业造成打击。
为支持国内企业加大光刻胶开发力度，2000年以来，我国出台多项政策支持半导体行业发展。
2006年，国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，因次序排在所列16个重大专项第二位，在业内被称为“02专项”。
公告显示，“ArF光刻胶产品开发和产业化”就是南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。
券商统计的信息显示，南大光电2017年承接的ArF光刻胶项目总投资额为6.6亿元，其中国拨资金1.9亿元，地方配套资金1.97亿元，使用上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。
该项目拟通过3年达到年产25吨ArF干式和浸没式光刻胶产品的生产规模，预计达产后年销售收入平均为1.48亿元，实现净利润0.6亿元，投资回收期6.8年（包含3年建设期），内部报酬率为18%。
截至今年上半年，光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。
该公司在公告中表示，ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。
“尤其是ArF光刻胶的复杂性决定其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，不仅需要技术攻关，还需要在应用中进行工艺的改进、完善，这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”
深交所互动易截图
最近三年净利润增速骤降
在ArF光刻胶贡献收入前，南大光电营收来源主要包括MO源产品和特气产品。
2020年半年报介绍，MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料，在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用。
而电子特气是“集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中必不可少的基础和支撑性材料”。
今年5月，南大光电董事长兼总经理冯剑松在业绩说明会上称，该公司将力争实现“MO源全球第一，电子特气国内一流，193nm光刻胶成功产业化”。
上半年，南大光电特种气体业务营收1.88亿元，同比增长274.15%；MO源产品实现营收0.68亿元，同比下滑23.55%；两项业务占比分别为 71.73% 、25.82%。
事实上，最近几年，南大光电特种气体业务持续增长。2017-2019年分别贡献0.36亿、0.78亿、1.64亿元的收入，营收占比也从20.16%增长至51.82%。
与此同时，该公司的MO源业务并不太稳定，2018年产量和销量均创 历史 最好水平后，2019年该业务销售收入下滑2.87%。
2017年以来，南大光电整体营收呈增长态势，从1.77亿元增长至2019年的3.21亿元，净利润从3384万元增长至5501万元，但净利润增速从348%骤降至7.36%。
“i问财”截图
扣除非经常性损益后，南大光电2017年-2019年的净利润分别为0.2亿元、0.37亿元、0.368亿元。而登陆创业板之前的2011年，该公司还实现扣非净利润1.76亿元，是去年扣非净利的近5倍。
同期，南大光电研发投入分别为3844万元、3735万元、6585万元，占营收的比重分别为21.69%、16.37%、20.49%，占净利润比重分别为114%、73%、120%。
今年前三季度，南大光电营收大幅增长96.15%，归母净利润增长97%，但主要是出售北京科华股权等带来的非经常性损益大幅增加。
当季，该公司扣非后净利润下滑84.84%，该公司称主要是摊销股权激励成本、研发费用投入及奖金计提增加所致；经营活动产生的现金流量净额同比下滑189.52%，主要是政府补助款较上年减少及本期拨付前期收到的项目经费给联合单位所致。
三季度财报截图
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