国产光刻机进展迅速的原因（国产光刻机进展迅速的原因是什么）
国产光刻机进展迅速的原因（国产光刻机进展迅速的原因是什么）
社会在不断的进步，人们对于一些事情的认识也不清晰，对于这些事情，我们需要不断的钻研，这是需要一步步的研究才能完成的，我们对于一些领域是完全陌生的，就算是经过很多年，这件事都是无法改变的，但是我相信，只要我们不断努力，在最后所有问题都是会被解决，这一点是不需要怀疑的，我国有很多的人，他们有着超人的毅力，对于困难，他们不会退缩，他们只是选择迎难而上，这是值得我们每一个人敬佩的，我们需要学习这种精神。
国产光刻机今年要下线了，它是如何发展起来了？对于这个问题，人们的认识还是很深刻的，由于科技的发展，导致很多新兴产业发展，国产光刻机就是这样的一个例子，由于人们对于这种机器的需要，然后导致他发展起来，但是当人们不需要的时候，就会被淘汰掉，这是一种正常的现象，面对这样的事情，我们要采取积极的态度，光刻机满足了当时时代的需要，就发展起来，这是一种好的产品，但是由于现代的发展，对于需求也减弱，就会被下线掉。
无论什么事情，只要有一颗不放弃的心，我们就能做成功，这一点是不用怀疑的，我们的研究是无止境的，多少人为了研究一件事情，他们可以不吃饭，不睡觉，他们甚至付出他们宝贵的生命，就是希望能够希望我们的生活更加美好，就算是为了他们，我们都应该不断学习新知识，这是一件不用怀疑的事情，时代是在不断的进步，只有我们紧跟时代的步伐，才能生存下去，要是不这样做就会被时代所淘汰。
国产的光刻机受到强烈的关注，就是因为这个东西关乎到我们国产芯片的这个制造能力，尤其是手机电脑等芯片，我们现在的这些芯片用的基本都是国外的，没有自己造出来的，因为你自己造出来的精度不够高，达不到使用的需求，然后外国又对我们技术进行技术封锁。
我们现在手机上所应用的芯片大多数都是高通公司生产的，大家所熟知的高通骁龙系列芯片，然后华为也确实有一些自我研发的芯片，但是他们的芯片是由台积电代工的，他们自己的生产能力很是℡☎联系：弱，像麒麟990这样的芯片基本上都是台积电生产的，因为他们自身生产不了定的芯片，没有那么高精度的光刻机，虽然这个东西很贵，但是他要是有市场的话有人愿意卖，我们多花一点钱也不是不行，但是给多少钱人家都不愿意卖人，且最新的技术也不是用钱能估量的。
如果我们国产的光刻机能够达到外国的那种精度，或者说比他们稍℡☎联系：差一点的芯片自己都能造那么对国外的依赖就小了很多了，这带来的是一个行业历史性的变革。如果说我们能够完全自主的去研究芯片去制造芯片，那我们现在手机的成本还会大大下降，因为我们现在手机里有相当大的一部分，这个花费是放在了芯片和系统这方面，如果这两个大问题能解决的话，我们的电子产品价格肯定还会有一个下降，这是个利国利民的好事。
我国也有不少的高科技企业在研究这方面东西，但是说到底什么时候能研究出来足够高精度的，并且能够大规模的去推广的，成本方面能控制住的机器，我们还不得而知，所以我们只能是多方面下手，和荷兰也进行了一定的接触，但是人家似乎并不愿意卖给我们，哪怕是现在这么严重的情况，他们也不愿意见，因为这个技术它是一个外国对我们的封锁，一旦这个封锁被打破了，那他们很多战略都没有办法实施了。
长春中科院在光刻机技术上面获得巨大突破，目前来说芯片制造仍然是我们的卡脖子问题，其实短时间内难以突破完成自主，这也是事实，目前来说整个芯片制造生产相关技术，我们自己的国产化不到50%，也就是说目前半导体领域产业链，我们还是非常依赖进口技术设备。
很多人都说芯片这个最主要的问题在光刻机，这个其实也没有错，但是也是并不完全对，光刻机是半导体芯片领域的最重要的环节之一，我们目前来说芯片领域的问题其实并不只是卡在光刻机技术上面，很多人都认为我们把光刻机技术攻克了，我们就可以完全实现自主化，这个说法有点草率了。
光刻机是我们众多难题里面的一个，其实其他的难题还在努力解决，不说其他就说硅片平面打磨技术我们都还是靠进口设备，这些只是被光刻机技术难题掩盖了而已，绝大多数人根本不知道这些，不过光刻机技术的确是我们目前最头疼的问题，也是最想要快速解决的问题，光刻机技术的难点在于四大方面。
第一方面就是光源系统，第二方面就是光学镜头系统，第三点就是双工平台系统，第四就是EDA系统，这四个只要有一个做不好，那么基本上就是达不到想要的成果，荷兰阿麦斯光刻机之所以能独霸，原因就在于它的十万个零件有欧美日韩等几十个国家共同提供，也就是说几乎是世界上科技最发达国家都加入了进去，并不是单独一个国家的水平。
我们国家之所以短时间难以突破，原因还是在于我们一个跟几十个较量，所以难度可想而知是什么样子的，知道这些了以后就不会觉得我们的科学家不够努力了吧，毕竟全世界没有哪个国家能单独生产出来高端光刻机，美国不行日本不行德国不行英国不行法国同样也不行，意大利荷兰更不可能，我们正在做他们做不到的事情。
虽然说我们现在的最先进的二十八纳米技术光刻机还在实验室里面，并没有真正的下线进入市场，主要的原因其实还是在精密度以及稳定性方面迟迟没有获得突破，虽然说过去几年陆陆续续都报道出来一些关键技术的突破，现实却是这些技术突破还在实验室里面，并没有真正的运用到实践当中，离真正运用到光刻机上面还有不少的时间。
这次长春突破的技术是光刻机关键技术之一，这种技术就是物镜系统里面的光学投影物镜制造，这个技术其实就是最关键技术之一的镜头物镜折射，用德国科学家的说法就是，这个镜头的镜片平面的平整度非常光滑，打一个比方就是把镜片放大到面积100平方公里 平整度需要保持在十厘米误差以内的平整度，可想而知难度有多高。
这次长春光机突破的这个技术就是这个了，镜片上面的突破，可以说光刻机最难的难点之一已经解决的时间不会太久，加上我们国家的光源系统稳定性也是非常好的，所以现在的两个核心问题技术获得突破，这个是可喜可贺的，但是也要明白突破并不代表已经完成，只是说技术突破离实际运用还早。
以我们这些年了投入跟技术突破，我们的光刻机很多技术已经得到解决，但是想要真正达到最先进水平并且用到生产上面，短时间内几乎不可能，按照现在的技术突破速度，我们想要达到先进水平，十五年内很难，因为这是一个产业链，并不是单独的某一样设备问题，整个产业链技术的提升才会真正帮助我们在光刻机在半导体领域获得全面突破达到自主话先进水平，所以说单独技术突破值得高兴，但是还是要认清现实需要更加努力，全方位努力才可以，不能偏科。
