90纳米光刻机能加工什么芯片（国产28nm光刻机可以生产多少纳米的芯片）
90纳米光刻机能加工什么芯片（国产28nm光刻机可以生产多少纳米的芯片）
90纳米光刻机能让中芯国际有价值！90纳米发展到1纳米制程也就靠时间的推移慢慢成长。5纳米制程再往上非常困难，每低一纳米需要更长时间的研究。90纳米发展到7纳米制程比5纳米发展到2纳米要快多了。
生产力是一方面，高精尖又是一方面。你不能说我可以满足生产力了，我就知足啦！就好比我们国家的航空发动机，你虽然能飞，但是你的体积大做功少。人家发射一枚火箭能运10顿物质到太空，轮到你就需要发射2到3次才能达到这种效果。人家飞机能装满燃料弹药起飞，你只能装满油少挂弹，或者挂满弹少加油！人家一颗芯片可以集成处理器，GPU，内存。而你得用三颗不同芯片来替代，这样有可比性么？
当年都说汽车工业是一个国家工业的象征，中国当年就是在一穷二白的基础上，然后制造出了解放牌汽车，然后又用手工打磨等各种技术制造出来的第1台红旗轿车。中国既然有了第1台90纳米的光科技，65纳米28纳米，那就是很快就能攻破的事。在加之中国很多技术是先用于军事方面，所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术。只是还没有向民用方面转用。
1、华为需要7/5nm EUV，DUV用处不大 2、这个光刻机肯定签订了附加条款，不能给中国高端芯片代工 3、光刻机里有美国技术，所以不能够卖给华为 4、华为除了光刻机以外，没有芯片产业链，蚀刻机和其他很多很多都要重新制备 5、根据一滴血原则，敢给华为提供第四条的东西的企业肯定会被制裁，到时候为了华为赔上整个中国半导体。
国内差的不仅仅是主要的cpu。内存颗粒，电源芯片，PHY芯片，各个领域的接口芯片都有很大差距。主要是协议是国外定的，只能人家先出来，你再仿制。
对于目前高尖端技术越来越必需的跨国合作和交流，但限于我们自身的不同，感觉我们要用一己之力去对抗现代化的科技和政治界的八国联军了，或许我们可以集中力量办大事，可付出的代价不可谓不大。也于经济规律违背，短时没问题，难道永远这样做？
知道芯片还是从电脑中CPU来的，90年代中期接触电脑，认为CPU才是芯片，其它都叫集成电路块，十几二十几个脚的算少的了，CPU上几百个脚感觉太高端了，都还没进入纳米时代，感觉现在还是如此，最领先的技术还是用在CPU上，以前的集成电路块用普通技术芯以足够了。
数码IT产品的更新换代其实也有很大成分是求新思维的作用，并不完全是因为旧机器完全不能用，我现在家里的笔记本还是2010年生日给自己买的，intel奔腾4400，自己加了内存硬盘容量，系统还是老的win7旗舰版，我不玩游戏，平时一般用用完全没问题一点也不卡，偶尔卡一下是家里网络问题，只要它不坏我会继续用下去。
低纳米工艺制程就是实现了高效率低功耗体积小而已，而这些基本就是手机和可穿戴设备在用，说白了都是些民用消费品，对于其他的大型设备影响不太。
荷兰阿斯麦Asml这种超级光刻机一般国家都买不到，他们产量有限，一年才十几台，有一半被台湾的台积电买走，因为台积电是阿斯麦的股东之一，中国大陆原本定了一台，不过迫于美国压力一直没给中国大陆发货，就是中芯国际定的，10纳米以下的光刻机制造需要全球一百多家顶级科技公司支持，它需要的零配件都是顶级的，只有这些顶级公司才能提供，所以才光刻机难造！中国要赶超需要很长时间。
90nm到7nm，5nm，说白了就是芯片内器件密度的不同，对同一电路可以用更小的芯片制造。同时，功耗也会低一些。对于手机，这个低nm芯片优势巨大，体积小，功耗低，功能强大。为保护国产芯片，建议国家对进口消费芯片征税。
美国主导的半导体产业核心是独立化，包括自动驾驶技术。源于两点，一是人口密度，二是军事用途。中国的人口密度让我们可以另外开辟一条路，譬如现在国家大力推行的云端战略。如果80%以上的运算和储存都可以在云端完成。手机还要那么快的算力做什么呢？
90纳米光刻机芯片到底有多大？台积电在大概在04年和05年时它的90纳米制程工艺技术才完全成熟，纳米是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说芯片的整体外观大小，而是指在芯片上光刻布置的元器件的间距。其实90纳米光刻机芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米光刻机芯片整体外观差不多是一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米光刻机芯片上可以光刻上10亿个元器件，而7纳米光刻机芯片就可以光刻上50亿个元器件。显然，7纳米光刻机芯片功能要强大的多，因为7纳米光刻机芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。
国产90纳米光刻机。改写了中国无“国产”光刻机的历史。早前，已经有中国企业制造出了光刻机，改写了中国不能制造光刻机和没有光刻机可用这2个历史。同时还可以迅速占领光刻机低端市场。目前而言，全球80%的低端光刻机市场被我国占有。海外有40%的市场被我国占有。掌握低端光刻机技术。经过不断的探索，逐步掌握高端光刻机技术。同时还可以满足我国军用需求。比如在北斗卫星导航系统上，国产战斗机。和一些低端芯片上。国产90纳米完全够用。在军事领域不用被西方等国家卡脖子。还可以培养一大批相关的企业。形成一批配套的产业链。形成规模化。目前国产的90纳米的光刻机曾出售给了我国的长电科技，这家企业的主营业务是芯片封装测试。这类光刻机主要用于芯片封装。而国产28纳米光刻机是在国产90纳米光刻机所建立技术基础上的加速性和跨越式发展。
显见国产光刻机“自带性”和“促进性”的作用都发挥得很快。国产28纳米光刻机，成功量产。让我国成功掌握了中端光刻机制造的制造技术。我国可以在中端芯片市场市场有所作为，打破了国外的封锁。在这方面，上海微电作出了巨大的努力。虽然国产28纳米光刻机不能在民用领域。迅速占领市场。但是他也成功打破了欧美的封锁。目前我国正在朝着14纳米，7纳米方向努力。我们应当正视和西方国家的差距不足。国家也在下大力纠正这一问题。我国正在投入巨资。对顶尖的光刻机进行研发。但是这需要有一个过程。不是一朝一夕就能完成的。我们也需要给国产一点时间。来包容国产的不足。历史也充分证明了西方封锁什么。我国在相关领域就会有重大突破。
随着现在科技的不断发展，人们在日常生活中的方方面面都已经有了很高的要求，而且人们对高科技的使用也变的越来越多了。最近比较许多人都在讨论光刻机这一项高科技，但是光刻机这一项技术在我国又恰恰是处于弱势的，因为我国目前仅仅只能制造出精度为90nm的光刻机，这比目前世界的顶尖水平有很大的差距，因为据说世界上著名的ASML公司已经能够制造出精度达到5nm的光刻机了。虽然我国的光刻机技术还不是很成熟，但也是不可缺少的。
目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西。如果按照目前的科技水平来看，90nm的精度并不能做什么，就算是用90nm光刻机制作出来的芯片在一些性能上也是不合格的，甚至很少有人会去使用。
但是以目前的情况来看，国际上使用精度非常高的光刻机制作出来的芯片并不是很多。根据2019年的大数据显示，其中收入最多的是以90nm甚至是低于90nm精度的光刻机所制作出来的芯片，而高精度的光刻机所带来的收入只占了总额的百分之一。由此可见，我国的光刻机还是能带来很大的收入的，并不是一无是处。
在目前的科技产品市场，还存在许多的低端产品，也就导致了这些产品不会使用高精度光刻机所制作出来的芯片。比如目前许多的电视机、智能手表，甚至是一些手机都是使用的是比较低端的芯片，而这些物品在我国的还是占有非常大的市场，所以说目前的光刻机精度完全是可以满足大多数人的需求的。
相信在不久的将来，我国的光刻机技术也能够站在世界的前端。
中国有光刻机的可以做5纳米技术的芯片的，可以关注这方面的科技信息，中国能够自主研发出5纳米长度的计数芯片了
我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平。
但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的。对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法实现，毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外。并且很多技术都已经被国外垄断，我国只能够自主进行设计，期待有一天能够实现弯道超车。
我国芯片水平难以前进，这与人才有关。
我国芯片水平局限于当前，这个标准与人才有关。我国无法培养出相关方面的人才，毕竟在这一领域内，我国还无法和西方进行比较。尤其是在人才方面根本无法和西方进行对比。这也导致我们没有优秀的工程师，只能够请国外的高薪工程师。但是国外请来的高薪工程师对技术把关非常严格，一般情况下是不会将技术透露给我国工程师，这也导致我国芯片水平局限于当前尴尬的地步。
第二点便是资金不够。
这里所说的资金不够，并不是所说的投资不够，而是光刻机芯片这一行业的利润不够。因为我国目前市场上的芯片都是由外国制造的，国产芯片在我国市场根本没有任何竞争空间。这也导致了很多科技公司不愿意往芯片这个方面发展，这也是我国芯片落后于西方国家的其中一个原因。
第三点便是没有自主设计专利。
目前国际上的芯片设计专利都已经被国外的光刻机公司垄断，我国能够申请的专利少之又少。基本上芯片设计的所有方面的专利都已经申请完了，剩下的专利技术对于芯片提升来说用处不大。所以归根结底以上三点便是我国芯片落后于西方国家的根本原因。
