众所周知,光刻机在芯片的生产过程中起着举足轻重的作用。只要拥有一台EUV光刻机,芯片制造企业就可以研制出更加先进的芯片工艺。除了光刻机之外,光刻胶等半导体材料对于芯片的光刻环节发挥了重要作用。南大光电公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过认证,打破了日本企业的垄断局面,成功获得第一个国产光刻胶订单。
被日德占据的光刻胶市场,南大光电正在打破垄断局面。或许大部分人都不知道光刻胶是什么,就好比版画刻印过程需要使用的油墨。由此不难看出,光刻胶的质量与芯片的良品率息息相关。
然而,全球的光刻胶市场被日本、德国等国家企业占据了80%以上的份额,特别是日本的“化学三大巨头”,包括JSR、TOK、信越,而且三大巨头还是世界上唯一可以供应EUV光刻胶的企业。在国外企业的垄断之下,国产半导体企业只能通过进口光刻胶实现生产。因此,南大光电公司实现国产光刻胶的强势崛起,可以推动光刻胶产业的发展。
国产光刻胶打破日本企业的垄断,面临的两个难点。在高端光刻胶市场上,日本企业更是出于高度垄断的地位。由于我国高度依赖进口的光刻胶,无论是研发技术还是市场规模,国产企业与国际巨头都存在明显的差距。在重重限制之下,国产光刻胶打破日本企业的垄断局面主要有两个难点。
其一:光刻胶产业的门槛越来越高,不仅需要投入大量的资金和技术,而且需要一批专业人才。值得一提的是,光刻胶对一致性和稳定性的要求十分严格。只要光刻胶的质量出现问题,就会带来严重的损失。除此之外,光刻胶必须符合差异化应用需求,按照不同客户和应用场景等需求进行调节。由此可见,光刻胶的细分种类复杂多样,根本无法实现标准化、模块化。
其二:由于光刻胶的验证周期较长,所以下游客户不会随意更换光刻胶制造厂商。在这种情况下,国产光刻胶难以打破当下的发展格局。
当然,这种情况不能说明国产光刻机无望打破传统。随着技术的积累,如今的南大光电公司已经发布了两条光刻胶生产线,ArF光刻胶正在广泛展开客户的验证任务,进一步扩大商用规模。在此期间,南大光电不仅发布了许多被国外企业垄断的中间体材料,而且发现了许多决定光刻胶性能的重要数据,推动了国产光刻胶的生产、制造等环节。为了研制出更加完美的光刻胶,南大光电投入了大量资金和人力。在我国半导体材料行业上,南大光电的研发支出增速与营收总额的占比已经处于前列。
国产光刻胶不会“被卡脖子”,日企垄断局面被打破。令人意想不到的是,南大光电仅仅用了一年时间,193nm ArF光刻胶研发项目就通过了使用认证,并且得到了第一份光刻胶订单,目前正在小批量销售。
由此可见,我国已经在光刻胶行业上打破了日本企业的垄断,并且开启了一条全新的发展道路。根据当前的测试结果进行分析,南大光电旗下的ArF光刻胶性能与日本企业研制的光刻胶产品基本处于同等水平,已经实现了ArF光刻胶的本土化和国产化,并且成为我国最先进的光刻胶产品,成功打破了长期被日本企业垄断的局面。
在南大光电举行的业绩说明大会上,南大光电对外披露:公司自主研制的ArF光刻胶产品与产业化项目建设了25吨光刻胶生产线。与此同时,南大光电已经在光刻机、原材料和生产设备方面进行布局。由于光刻胶的主要原材料是我国自主研发的,并且联合我国企业共同研制了生产设备,所以不会出现“被卡脖子”的风险。
光刻胶是芯片生产环节的重要材料,主要应用于光刻工艺。如果没有光刻胶,那么光刻机只是一堆价格昂贵的废铜烂铁。
因此,实现光刻胶的国产替代迫在眉睫。成功打破日本企业的垄断,南大光电自主研制的光刻胶产品目前正在验证,在未来发展有望得到更多的光刻胶订单。当下的南大光电公司已经成为国产光刻胶替代的企业巨头,在南大光电等国产企业的积极奋斗之下,相信我国能够在高端光刻胶市场上取得重大突破。对此,你有什么独到的见解呢?
观察者网·大橘 财经 讯(文/吕栋 编辑/尹哲)在集成电路制造领域,光刻机被称为是推动制程技术进步的“引擎”,而光刻胶就是“燃料”。
未来几年,随着中芯国际、长江存储、长鑫存储等晶圆厂进入产能扩张期,高端光刻胶的国产化替代迎来重要窗口。
12月17日晚间,南大光电公告披露,其控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称:宁波南大光电)自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点。
“本次产品的认证通过,标志着‘ArF光刻胶产品开发和产业化’项目取得关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,为全面完成项目目标奠定坚实的基础。”公告中写道。
南大光电内部人士今天在接受观察者网采访时透露,ArF光刻胶生产线已建成,可根据客户需要量产。
受上述消息影响,创业板上市的南大光电今天高开近14%,最终收涨8%。
不过,需要注意的是,截至今年上半年,光刻胶业务还未给南大光电贡献营收。该公司坦言,ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点,后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。
最近三年,南大光电净利润增速骤降,2019年扣非净利润仅为上市前的五分之一。
公告截图
量产阶段仍存诸多风险
观察者网梳理相关资料发现,光刻胶是一种对光敏感的混合液体,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的℡☎联系:细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。
依据使用场景,待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板(PCB)。
因此,按应用领域分类,光刻胶又可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前,国产光刻胶以PCB用光刻胶为主,显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。
浙商证券2020年4月研报截图
作为技术难度最大的光刻胶品种,半导体光刻胶也是国产与国际先进水平差距最大的一类。
长时间以来,为满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求,光刻机不断通过缩短曝光波长的方式,提高极限分辨率。
目前,光刻机光源波长由紫外宽谱逐步缩短至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(
本次南大光电通过客户认证的光刻胶,就是ArF光刻胶。
国元证券2019年1月研报截图
南大光电表示,ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等)。
认证评估报告显示,“本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证,宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求,良率结果达标。”
南大光电认为,本次通过客户认证的产业化意义大。
“本次验证使用的50nm闪存技术平台,在特征尺寸上,线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求,孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求,该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。”公告中称。
至于为何选在50nm闪存产线验证, 南大光电内部人士向观察者网表示 ,该公司产品分别在不同客户处验证,有逻辑有存储的。因为存储的先通过,就先公告,其他的还在努力中。
不过,该人士并未向观察者网透露,公告中的客户是国内或者国外厂商。
IC光刻流程图
目前,全球光刻胶市场基本被美日大型企业垄断,中国大陆内资企业所占市场份额不足10%。
2019年,日韩贸易争端中,日本就曾通过禁运光刻胶对整个韩国半导体行业造成打击。
为支持国内企业加大光刻胶开发力度,2000年以来,我国出台多项政策支持半导体行业发展。
2006年,国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,因次序排在所列16个重大专项第二位,在业内被称为“02专项”。
公告显示,“ArF光刻胶产品开发和产业化”就是南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。
券商统计的信息显示,南大光电2017年承接的ArF光刻胶项目总投资额为6.6亿元,其中国拨资金1.9亿元,地方配套资金1.97亿元,使用上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。
该项目拟通过3年达到年产25吨ArF干式和浸没式光刻胶产品的生产规模,预计达产后年销售收入平均为1.48亿元,实现净利润0.6亿元,投资回收期6.8年(包含3年建设期),内部报酬率为18%。
截至今年上半年,光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。
该公司在公告中表示,ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。
“尤其是ArF光刻胶的复杂性决定其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善,这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”
深交所互动易截图
最近三年净利润增速骤降
在ArF光刻胶贡献收入前,南大光电营收来源主要包括MO源产品和特气产品。
2020年半年报介绍,MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料,在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用。
而电子特气是“集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中必不可少的基础和支撑性材料”。
今年5月,南大光电董事长兼总经理冯剑松在业绩说明会上称,该公司将力争实现“MO源全球第一,电子特气国内一流,193nm光刻胶成功产业化”。
上半年,南大光电特种气体业务营收1.88亿元,同比增长274.15%;MO源产品实现营收0.68亿元,同比下滑23.55%;两项业务占比分别为 71.73% 、25.82%。
事实上,最近几年,南大光电特种气体业务持续增长。2017-2019年分别贡献0.36亿、0.78亿、1.64亿元的收入,营收占比也从20.16%增长至51.82%。
与此同时,该公司的MO源业务并不太稳定,2018年产量和销量均创 历史 最好水平后,2019年该业务销售收入下滑2.87%。
2017年以来,南大光电整体营收呈增长态势,从1.77亿元增长至2019年的3.21亿元,净利润从3384万元增长至5501万元,但净利润增速从348%骤降至7.36%。
“i问财”截图
扣除非经常性损益后,南大光电2017年-2019年的净利润分别为0.2亿元、0.37亿元、0.368亿元。而登陆创业板之前的2011年,该公司还实现扣非净利润1.76亿元,是去年扣非净利的近5倍。
同期,南大光电研发投入分别为3844万元、3735万元、6585万元,占营收的比重分别为21.69%、16.37%、20.49%,占净利润比重分别为114%、73%、120%。
今年前三季度,南大光电营收大幅增长96.15%,归母净利润增长97%,但主要是出售北京科华股权等带来的非经常性损益大幅增加。
当季,该公司扣非后净利润下滑84.84%,该公司称主要是摊销股权激励成本、研发费用投入及奖金计提增加所致;经营活动产生的现金流量净额同比下滑189.52%,主要是政府补助款较上年减少及本期拨付前期收到的项目经费给联合单位所致。
三季度财报截图
本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。
随着芯片行业受到的关注越来越多,光刻胶板块这两天又火了起来,那么在A股市场上,有哪几家公司算得上是光刻胶领域的龙头呢?这篇文章就跟大家介绍几家!
雅克科技:子公司斯洋国际有限公司与 LG CHEM, LTD.(LG 化学)签署《业务转让协议》,以580亿韩元(折合人民币约3.35亿元)购买其下属的彩色光刻胶事业部的部分经营性资产,标的资产主要包括与彩色光刻胶业务相关的部分生产机器设备、存货、知识产权类无形资产、经营性应收账款等。
宝通科技:博砚电子为宝通辰韬投资,该公司是一家研发、生产光阻的厂家,主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料,产品广泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。该公司持续技术创新战略,凭借自身雄厚的科研实力,突破本土制造的长期技术瓶颈,已经成功开发出系列光刻胶产品。
江化℡☎联系::公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。
南大光电:公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证,成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。近日拿到首个订单,拟进行小批量生产,目前尚未签署大批量订单。
容大感光:公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。
综合以上,就是几家,在A股市场上手里有光刻胶相关技术和业务的上市公司,都算的上是领域里的龙头,希望这篇文章能给大家带来帮助,感兴趣的投资者们要多多研究!
投资者一直很关注半导体行业,并且这个行业也得到了国家的大力扶持,其中南大光电这只股票怎样呢,有投资价值吗,下面我来详细分析一下。准备开始说南大光电之前,这份半导体行业龙头股名单可供你们参考,点开就能查看:宝藏资料!半导体行业龙头股一栏表
一、从公司角度来看
公司介绍:江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商,其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台,全面推进研发创新能力建设,自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。
粗略讲完南大光电后,下面我们从南大光电做的好的地方开始分析,看看它还值不值得投资。
亮点一:自主研发ArF光刻胶产品,加速公司光刻胶业务发展
公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品,实现了国内ArF光刻胶从无到有的重大突破,公司目前已建设了两条光刻胶生产线,光刻胶每年的产量高达25吨。目前,ArF光刻胶产品已取得小批量订单,在光刻胶国产化的大趋势下,光刻胶业务将带动公司业绩创建一个新的成长空间。
亮点二:多维度布局半导体材料,技术优势明显
电子特气方面,新一代安全源、混气产品相继产业化,最新升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平,超高纯磷烷产品已经挤入了国际一流制程的芯片企业,公司氢类电子特气已跃居世界前列。MO源方面,公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长,高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。碍于文章受限,这篇研究报告把关于南大光电更深入的分析和潜在风险都详细写了,戳开这个链接就能知道:【深度研报】南大光电点评,建议收藏!
二、从行业角度看
十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持,这是非常好的。这几年间,美国和其他国家合伙对中国进行高科技封锁,严格限制对中国的设备、技术出口,这波操作反而增加了国内市场对半导体技术国产化的需求,也侧面让国内半导体全产业链的发展进步了。
光刻胶方面:在供给端中,受晶圆厂扩产、疫情等因素的影响,光刻胶的供给局面很紧张。在需求端中,国内多家国内晶圆厂也在积极扩产,国内光刻胶的产量远不够需求而且差距还在连年增长,特别是在ArF、高端KrF等半导体光刻胶这一层面,光刻胶作为"卡脖子"产品对国产替代的需求越来越迫切。
总而言之,我国对于高科技产业之一的半导体行业很重视,南大光电作为行业的领军人物,发展的空间将非常大。然而文章具有时滞性,假若想更准确地认识南大光电未来行情,建议点击下方链接,就有专业的投顾为你诊股,瞧一瞧南大光电估值到底是什么情况:【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估?
应答时间:2021-10-02,最新业务变化以文中链接内展示的数据为准,请点击查看