光刻机关键技术哪国的（光刻机有哪些核心技术）
光刻机关键技术哪国的（光刻机有哪些核心技术）
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。
目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
品牌型号：慕朗迪光刻机
系统：k12
光刻机是法国人Nicephore niepce（尼埃普斯）发明的，起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。
那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。
一，是荷兰阿斯麦公司是自世界各国大公司投资的公司，其中大股东就有（美国）的英特尔公司，韩国三星，还有我国的台积电。这样的的好处是集资容易，风险共担，重要的是有美国大股东控制着。
二，是荷兰阿斯麦生产的光刻设备，一些重要部件来自世界很多国家，比如最重要的光源技术来自美国的一家公司，镜头来自德国等，这里又有美国公司参与控制。
三，是觉得把这种高科技公司放在荷兰可以更好的垄断这个产业，不使技术外流，一是荷兰是美国的小弟不担心；二是美国国内有反垄断法，如果把这样的公司放美国国内可能会被析分成至少两家公司，这样人才技术就会不集中，研发起来慢，也可能浪费钱，造成产能过剩，而在荷兰就没有这种法律，这样就比较好控制。
四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。
总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。
光刻机的生产国家有荷兰、中国、日本、美国、韩国。相对于其他国家来说,目前的荷兰光刻机的精度为首。
ASML在光刻机生产的大部分零部件都是从国外进口的。专业光刻机检测采用美国技术，也采用蔡司，德国的光学镜头这些都是世界顶尖技术，并不是所有都可以归一个国家所有。光刻机是人类最高智慧的结晶，需要长期的科研投入和技术积累。
