目前国内没有14纳米的光刻机,但是有能够制作14纳米芯片的28纳米蚀刻机。
共7台28纳米蚀刻机,是我国从中国举办的2021年世界服装贸易会,向荷兰阿斯麦公司引进。这也是我国拥有广阔外汇储备的优势,也正是凭借这些设备,在2022年中芯国际实现了14纳米 SOC的量产
90纳米。
封装光刻机在国内市场已占据不小的份额,这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面,上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机,这是国产光刻机最高水平,而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机,两者差距不得不说非常大。
光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。 光刻机的最小分辨率由公示 R=kλ/NA,其中 R 代表可分辨的最小尺寸,对于光刻技术来说R 越小越好,k 是工艺常数,λ 是光刻机所用光源的波长。
NA 代表物镜数值孔径,与光传播介质的折射率相关,折射率越大,NA 越大。光刻机制程工艺水平的发展均遵循以上公式。此外光刻机的内部构造和工作模式也在发展,不断提升芯片的生产效率和良率。
扩展资料:
注意事项:
进入机仓检查或维修必须切断电源,挂上警示牌并与中控,检修或检查时必须使用36V以下照明。
必须经常监视机器运转情况,如听任何不正常声音,应立即停机检查,查明原因并处理完故障后,方可重新起动。
正常运转中,应特别注意电机和转子的温度变化,保证充足的油润滑、水冷却,超过规定值立即停机检查。
运行时不准打开观察孔,以防物料飞出伤人,每周应检查一次转子卡箍螺栓的松紧情况。
参考资料来源:百度百科-光刻机
参考资料来源:***-世界首台分辨力最高的国产SP光刻机到底牛在哪?
目前国产光刻机已经达到了七纳米水平,对于国外的五纳米还处在很大的前进进步阶段。