科益虹源股票代码(000623股票)科益虹源公司股票
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8月12日，华为在内部开启“塔山计划”的消息，引发市场的系列反响。
当天，有消息称，华为正式启动“塔山计划”并提出明确的战略目标，称华为已经开始与相关企业合作，准备建设自主技术的芯片生产线，还列出了16家第一批入围计划的公司，涉及多家上市公司。
当日尾盘，在名单之列的芯源微逆势上涨近13%，上述消息的“威力”可见一斑。
对于上述计划，华为官方并未作出正式回应。
市场也一度质疑该消息的真实性，认为其系游资炒作。
8月13日，
“塔山计划”真假之辩背后，推进产业链国产替代已经迫在眉睫。
“塔山计划”真假疑云
该人士称，由于国际大环境遭受制裁使台积电等无法代工华为芯片，导致华为芯片无法生产，华为在内部开启“塔山计划”。
根据消息，华为已经开始与相关企业合作，准备建设一条完全没有美国技术的45nm的芯片生产线，预计年内建成，同时还在探索合作建立28nm的自主技术芯片生产线。整体思路则是华为建立资源池，通过入股、合作研发等合作方式，扶植半导体材料、设备企业。但是华为主要做实验，不做重资产量产投入，帮助跑通产线为目的。
此前不久，华为启动了“南泥湾计划”，包含了笔记本电脑、大屏等产品。由此市场人士判断，华为启动“塔山计划”，似乎也在情理之中。
该计划被媒体纷纷跟进报道，引来大众几乎一致的叫好声。
其中，涉及的上市公司包括芯源微、北方华创、中微公司、万业企业、精测电子等。
消息称，其中芯源微进展*，12日尾盘，芯源微快速拉升，收报涨跌幅近13%，中微公司则微涨1.45%。
但在舆论发酵之后，引来了市场人士的质疑。
尤其是针对计划提及的将在一年内就建成“一条完全没有美国技术的45nm的芯片生产线”的消息，业内人士认为可行性不大。
此后，有媒体向华为内部人士求证上述计划，他们均表示没有听说过该消息，华为官方也未对此有所回应。
中微公司董秘刘晓宇对
从二级市场的表现来看，芯源微在13日大幅回调，跌幅约10%，中微公司跌幅约2%。相关标的股价拉涨后再回调，更被市场认为相关消息方发布“塔山计划”炒作意味甚浓。
自主芯片之路
故事似乎到这里就结束了。但有关华为寻求全面技术自主的讨论并未停止。
据
从多位电子行业人士的分析来看，市场之所以愿意相信该计划，是因为这是华为在当前情境下不得不进行突围的一种必要方式。
“是可以实现的，这么多年一直没人去做是因为没有必要，成本太高。相关消息显示，华为本身不搞产线，而是参加中试产线的设置，测试流程打通后，交给合作企业去生产复制，在华为牵头之下，整合预期料将加快。”开源证券长期关注电子行业的*投顾刘浪说，“之前市场普遍预期至少五年才做出28nm的线，现在来看可能进度会加快。”
而这项计划的战略目标也与当下半导体行业卡脖子的环节相吻合，即要突破包括EDA设计、材料、材料的生产制造、工艺、设计、半导体制造、芯片封测等在内的各个半导体产业关键环节，实现半导体技术的全面自主可控。
具体来看，目前半导体行业卡脖子的环节主要是光刻机等设备和部分材料。
从被列入清单的公司的主营业务来看，也多以设备为主：上海微电子是国内技术领先的光刻设备厂商，中微公司的部分刻蚀设备做到了全球领先，北方华创是刻蚀机领域的龙头厂商，芯源微的主要产品是光刻工序的涂胶显影设备和单片式湿法设备。
同时，半导体行业要想真正实现国产化还有很远的路要走。
“华为的产线重组只是去美化，并不表示没有对外依赖，实际上半导体材料的其中一部分对日本也还是有依赖的，韩国也有一些但不多。芯片设计软件方面，目前华为是有完全授权的，暂时还可以用，但等到下一代产线想更新的时候，如果被限制住会是一个更大的瓶颈，这也是对美国依赖最严重的一个领域，美国应该能占到80%以上的市场份额。”刘浪说。
华为“塔山计划”的真假之辩，恰恰反映了国内半导体行业实现完全技术自主的难度。
5月9日丨吉林敖东(000623.SZ)公布，2022年5月9日，公司收到李秀林、郭淑芹等10名董事、监事、*管理人员通知，上述人员通过集中竞价交易方式共增持公司股票114.98万股，占公司总股本的0.10%，增持合计金额为人民币1618.63万元，该次增持计划已实施完成,充分体现了公司董事、监事和*管理人员对资本市场和公司未来发展前景的信心。
北京科益虹源光电技术有限公司在国家大力推动科技成果转化的政策下于2016年7月成立，由中国科学院光电院、中国科学院微电子研究所、北京亦庄国际投资有限公司、中科院国有资产经营有限公司共同投资创立。
交易条件
（1）拟募集资金金额不超过8000万元；
（2）拟募集资金对应持股比例或股份数择优确定；
（3）增资完成后，新增股东与原股东最终持股比例根据本次增资最终成交价格确认；
（4）募集资金用途用于开发新的产业园区。
项目详情
现拥有超过60人的技术管理团队，其中硕士以上学历占比约60％，博士以上学历占比约20%，2018年底计划将团队规模扩大到100人左右。生产及办公场地面积4,500m2，包含1200 m2 洁净生产间，并配备了百台(套)光、机、电、装、调、试验及检测等设备/仪器。
2018年3月科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破了国外厂商的长期垄断。正在承担“国家02重大专项浸没光刻光源研发”任务，到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作，对我国集成电路产业发展具有重大意义。
科益虹源秉承“光电改变生活”的使命，致力于打造准分子激光领域自主创新型企业，成为国际上受人尊敬的专业光电技术解决方案提供商！以具有自主知识产权的准分子激光技术和产品满足市场需求，为国家相关产业和国防事业发展提供技术支持，为股东创造高价值、提供高回报。
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国产光刻机的星星之火，来自这六家公司。
国产光刻机的研发进程，似乎越发“扑朔迷离”。
今年六月份有消息传出，国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于28nm制程生产的193nm ArF光刻机。
另外，据方正证券今年发布的相关研报，国家02专项光刻机项目二期曾设定，拟于2020年12月验收由上海微电子设计集成的193nm ArF浸没式DUV光刻机。
这一技术突破无疑极具重要意义。要知道，此前上海微电子能量产的*进光刻机，已被卡在90nm制程上四年之久。但是，现在时间迈进12月中旬，我们却并未看到有关这台光刻机的确凿消息。
这一背景下，中国的IC前道用先进光刻机研发之路，究竟走得怎么样了？那台传言中的ArF光刻机背后，又有哪些玩家的身影？
芯东西挖掘国产193nm ArF浸没式DUV光刻机背后的研发故事，发现除了国产光刻机龙头上海微电子，其他5家“低调”的企业亦承担了重要角色。
今年以来，中美贸易摩擦加剧、全球范围内疫情肆虐等种种因素，为国内半导体产业链开启了“hard”模式。其中，光刻机被“卡脖子”的问题，既是国产半导体产业的远虑，更是近忧。
芯东西了解到，面向这一难题，包括上海微电子在内的上述六家国产光刻机产业链玩家，正致力于攻关先进光刻机各个部件的技术壁垒。
▲六家国产光刻机产业链玩家汇总
今天，我们挖掘这六家企业身上的故事，盘点国产光刻产业链的“星星之火”。
01.
光刻：十三年磨一剑背后的中国芯片业隐痛
半导体产业链可分为芯片设计、制造、封测三大环节，在芯片制造几百道工序之中，光刻是最重要的步骤之一，直接定义了晶体管的尺寸。
光刻机是中国芯片业发展的一道短板，这已经不是新闻。尽管如此，提起中国可量产的光刻机已被卡在90nm制程4年，这个时间跨度仍令人心惊。
2007年，中国光刻机龙头企业上海微电子宣布突破*nm光波长的DUV光刻技术，该技术可用于90nm芯片制程的生产。2016年，上海微电子SSX600系列的三款步进扫描投影光刻机实现量产，其中SSA600/20光刻机分辨率达到90nm。从2007国产光刻技术突破90nm分辨率至今，国产玩家十三年磨一剑。其间， 尽管国产光刻机玩家不断探索，但始终未实现更先进光刻机的量产。
然而，90nm制程的芯片一般用于电源管理芯片、MCU等非核心芯片的生产，并不能满足手机处理器等产品的需求。
目前，大陆晶圆代工龙头中芯国际14nm晶圆代工产线上，使用的是荷兰光刻机厂商ASML的设备。
▲上海微电子SSX600系列光刻机
直到今年，中国光刻机研发工作似乎出现进展。今年早些时候曾传出消息，称上海微电子已经研发出可用于22nm芯片生产的光刻机，但并未透露相关光刻机型号，芯东西也未找到确凿的信源。
相比之下，上海微电子突破28nm芯片制程用光刻机技术壁垒的消息更为可信。
据方正证券今年发布的一份研报，在02专项光刻机项目二期中，设定于2020年12月验收193nm ArF浸没式DUV光刻机，这款光刻机直接对标国际光刻龙头ASML现阶段最强DUV光刻机TWINSCAN NXT：2000i。
相比90nm制程芯片，28nm制程的芯片能制造出性能更为优越的芯片产品。尽管短时间内可能无法实现193nm ArF浸没式DUV光刻机的量产，但这一技术突破的战略意义毋庸置疑。
要知道，理论上来说，193nm光波长ArF浸没式DUV光刻机可用于7nm制程芯片的生产。目前，全球拥有193nm光波长ArF浸没式DUV光刻机生产量产能力的玩家中，数得上名字的也仅有占据80%全球光刻份额的ASML，以及分食剩余市份的尼康和佳能。
▲近三年ASML、尼康、佳能光刻机出货量情况
跨越13年研发，这台可用于28nm制程芯片生产的光刻机，可以说被中国芯片业期盼已久。
02.
上海微电子：深紫外线光刻机水平有望追平ASML
从技术层面来讲，光刻是指利用光学-化学反应原理，将电路图转移到晶圆表面的工艺技术，而光刻机则是光刻工序中的一种投影曝光系统。
光刻机可分为无掩模光刻机和有掩模光刻机，前者技术壁垒相对较低，一般用于高分辨率掩模版、集成电路原型验证芯片等特定芯片的小批量制造。而卡住国产半导体产业链“脖子”的，则是技术壁垒较高的有掩模光刻机，有掩模光刻机目前多用于先进制程的前道工艺中。
从分类来看，无掩模光刻机又可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机；有掩模光刻机分为接触/接近式光刻机和投影式光刻机。
此外，有掩模光刻机又可按照光刻光源的代际进行划分，上海微电子正在研发的193nm光波长ArF浸没式光刻机属于第四代光刻机，可用于45～22nm制程芯片的生产。
▲光刻机经历了五代发展（图源：国泰君安证券研究）
目前，上海微电子是中国国内*能制造IC前道工艺用光刻机的企业，在其已量产的光刻机产品中，最为先进的是SSA600/200产品，能够用于90nm制程芯片的生产。
深紫外线光刻机作为有掩模光刻机历史上的第四代光源设备，采用193nm光波长ArF（准分子激光器）已经是*水平。也就是说，如果上海微电子成功设计、集成出193nm光波长ArF浸没式光刻机。就意味着在深紫外线光刻领域，中国技术水平已经赶上全球光刻机龙头ASML。
03.
上海微电子背后的国家队“五强”
光刻机主要可分为照明系统、Stage系统（工作台系统）、镜头组、搬送系统、Alignment系统（对准标记系统）这五大组成部分。
作为高度复杂的半导体领域关键设备，光刻机对集成度的要求极高。有数据显示，组装一台光刻机需要上万个零部件。
由于光刻机各个组件的高度复杂，全球光刻机龙头ASML即在成立早期，采取“Out House”的运营模式，仅负责光刻机整机的设计和子系统的需求定义，将各个子系统委托第三方厂商进行研发生产。
直至今天，ASML仍保留有部分“Out House”模式的传统，比如，其使用的光刻机核心组件，由蔡司、Cymer等多家厂商供应。
与ASML相同，上海微电子的193nm光波长ArF浸没式光刻机研发之路上，亦有国产产业链玩家的支持。
为尽快完成对193nm光波长ArF DUV光刻机的攻关，中国推出“极大规模集成电路制造技术及成套工艺”项目（又称“02专项计划”），其中专门针对光刻产业进行规划。
根据“02专项计划”，我国光刻机研发工作亦采用类似“Out House”的研发模式，上海微电子负责整机的设计与集成，另有五家企业各自负责对光刻机不同核心零部件的研发。
值得一提的是，这五家承担核心零部件研发企业，均与中国*高校联系紧密，代表着中国最*的半导体研发实力。
这五家企业分别是：
1、北京科益虹源
北京科益虹源光电技术有限公司成立于2016年7月，主营光刻机光源系统，拥有准分子激光技术研究、产品开发的能力。
在企业工商平台可以看到，北京科益虹源第一大客户为持股37.5%的中国科学院微电子研究所。
2、北京国望光学
北京国望光学科技有限公司成立于2018年，经营范围包含光刻机曝光光学系统、高端镜头、光电仪器与装备、光学加工与检测设备等。
目前，北京亦庄国际投资发展有限公司持股国望光学约66.67%，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所持股国望光学约14.67%。
3、长春国科精密
长春国科精密光学技术有限公司成立于2014年，总部位于吉林省长春市，在上海设有投影光刻照明系统研发事业部。
目前，长春国科精密由长春净月创业投资有限公司***持股。值得一提的是，长春国科精密与北京国望光学的法定代表人，均为长春光机所所长助理孙守红。
长春光机所是中科院*的研究所，先后孕育出了西安光机所、上海光机所、成都光机所等科研机构。
据长春国科精密官网，目前，长春国科精密作为“国家科技重大专项02专项”支持的*高端光学技术研发单位，正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作。
4、北京华卓精科
华卓精科成立于2012年，主营业务为集成电路制造装备及关键零部件的研发和产业化。目前产品包括光刻机双工件台及其衍生产品超精密运动平台、激光退火设备、晶圆键合设备等。
今年六月份，华卓精科的科创板IPO申请获得上交所受理，但这一IPO流程已于9月30日被中止。根据上交所官网，中止原因是华卓精科发行上市申请文件中记载的财务资料已过有效期，需要补充提交。
在华卓精科递交的招股书中可以看到，其光刻机双工件台产品的重要客户，正是上海微电子。
▲北京华卓精科主要客户群体
5、浙江启尔机电
浙江启尔机电技术有限公司成立于2013年，主要研发、生产和销售高端半导体装备超洁净流控系统及其关键零部件。启尔机电前身是浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队。
04.
无掩模光刻机已实现“从0到1”
相比有掩模光刻机，中国在无掩模光刻机方面走得更远。尽管激光直写光刻技术难以达到纳米级别的光刻精度，但在面板（FPD）领域有较多应用。
商务部数据显示，2013年至今，国内面板市场发展迅速，2013～2020 年复合增长率达 36.48%。从全球市场占比来看，2013年至今，中国面板产能持续增长，在全球市场占比已达到近50%。
▲2013-2020年中国面板产能及全球占比（商务部，国泰君安证券）
目前，除了大陆光刻机龙头上海微电子外，合肥芯硕半导体、无锡影速半导体、东方晶源微电子等玩家已经在无掩模光刻机市场取得技术突破。
其中，合肥芯硕半导体是国内首家半导体直写光刻设备制造商，研发的ATD4000型号产品已经实现*200nm的量产。
无锡影速半导体是由中科院微电子所联合业内技术团队、产业基金发起成立的专业微电子装备企业，目前已成功研发国际首台双台面高速激光直接成像连线设备（LDI），实现了*200nm的量产。
东方晶源微电子的产品主要用于20nm以下极大规模半导体片制子束图像检测设备和合优化开发及生产，可为关键工序提供高速、高精度的检测系统。
05.
结语：中国光刻技术攻关的关键时刻
不论是由于瓦森纳协定还是近期的中美贸易摩擦，在国产芯片产业链面临的困境中，光刻技术无疑成为直接“卡脖子”的一环。
要解决这一问题，技术攻关当然是必不可少的。目前，国产的深紫外线光刻机正处于研发的关键进程之中。在这背后，包括上海微电子在内的多位国产玩家正在攻关。
另外，借力国外成熟产品或可帮助芯片制造商实现突破。2018年，我国芯片公司中芯国际花费约1.2亿美元，向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。由于种种原因，目前，这台光刻机还未成功交付。我们期待它能够尽快落地中国，助力中国芯片事业再上一个台阶。
在严峻的外部贸易环境下，攻关光刻技术对国产芯片产业链来说意义非凡，期待相关技术攻关能够实现突破。
今天的内容先分享到这里了，读完本文《科益虹源股票代码》之后，是否是您想找的答案呢？想要了解更多科益虹源股票代码、000623股票相关的财经新闻请继续关注本站，是给小编*的鼓励。
