光刻机还有什么机器（啥是光刻机）
光刻机还有什么机器（啥是光刻机）
第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。
2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。
但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。
根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。
22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破
中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；
在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
扩展资料：
光刻相关介绍：
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。
在传统光学光刻技术逼近工艺极限的情况下，电子束光刻技术将有可能出现在与目前193i为代表的光学曝光技术及EUV技术相匹配的混合光刻中，在实现10nm级光刻中起重要的作用。
应该提到的是电子束曝光技术是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术，在微电子、微光学和微机械等微系统微细加工领域有着广泛的应用前景，而且除电子束直写光刻技术本身以外，几乎所有的新一代光刻技术所需要的掩模制作还是离不开电子束曝光技术。
参考资料来源：百度百科-光刻
参考资料来源：百度百科-光刻机
1、光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位。光刻机，是制造芯片的机器。要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。
2、光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
3、目前，在全世界范围内，有能力生产光刻机的企业只有寥寥可数的几家，其中的霸主是一家叫做ASML的荷兰公司。ASML是一家市值大约在900亿美元，有着一万六千名员工的公司。在这一万六千人中，研发人员占比超过百分之三十六， 也就是说有超过六千人是研发人员。正是这一万六千人，帮助ASML研发出了世界上最顶尖的光刻机——EUV光刻机。
在手机、电脑、智能手表这些电子设备中,芯片是其最核心的零部件。芯片也是半导体行业集成度最高的元器件,而生产其所用的硅材料,主要来源于沙砾。
你的问题太过宽泛了,可谓一言难尽,实际情况是别说芯片；
这种复杂半导体器件,就是闭着眼在主板上随便摸一个元器件,如果列出从原料获取开始全部涉及.比如电源IC控制电源供电 IC不供电 但它可以控制电源供电；
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。
工业生产中总是采用最先进的超大规模集成电路技术来制造中央处理器,即 CPU 芯片。 它是计算机的核心部件。
巨头就是ASML,ASML在芯片生产制造环节的作用就是为芯片代工厂提供最重要的生产设备——光刻机。相信关注芯片领域的消费者都对光刻机有所了解,这种机器的精密程...
光刻机是生产制造高档芯片不可或缺的机器设备。而提到光刻机,我们第一时间都是想起荷兰阿斯麦公司(AMSL),因为截止到现阶段,仅有它可以造出世界最优秀的光刻机。
巨头就是ASML,ASML在芯片生产制造环节的作用就是为芯片代工厂提供最重要的生产设备——光刻机。相信关注芯片领域的消费者都对光刻机有所了解,这种机器的精密程...
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当然你能组装机器，但操作系统也是必不可少的。
一台光刻机可以制造很少的芯片。相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字。光刻机是生产手机芯片的重要机器之一。目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度光刻机80%以上的市场份额。目前，一台光刻机的成本高达上亿美元，而一台光刻机一年的产能最多只有几台，光刻机是目前世界上最尖端的设备技术之一，而一台7纳米的光刻机价格非常昂贵，价格高达1.2亿美元，甚至1.2亿美元的光刻机，也是供不应求。
据悉，华为的麒麟990流片的成本号称高达3000万美元，相当昂贵。不过，经过验证和流片等一系列过程，一旦芯片能够投入试产和量产，整体就会稳定下来。光刻机巨头，目前是ASML，负责全球大部分光刻机的订单。但即便如此，资料显示，ALSM在十年间只生产了57台光刻机。不难看出光刻机对技术的要求有多高。值得注意的是，57台光刻机中的30台被台积电以每台约10亿元人民币的价格售出。换言之，台积电仅在光刻机上就花费了300亿美元。在荷兰的垄断下，10亿台光刻机，当年能生产多少芯片？
据相关数据显示，目前ALSM提供的摄影机的理想产能为每小时200片12英寸晶圆，其中大部分处于理想产能的50%。以华为的9905G芯片为例，其总面积为113.31平方毫米，那么一块12英寸晶圆可以提供约600块原材料，除去一些不好的和质量差的，约500块。因此，如果你看一下，那就是每天50万个芯片，一台平版印刷机一年可以生产大约1.8亿个。因此，价值10亿美元的光刻机是值得的。
如果在马路上看到这种货车，一定要躲远一点，万一不小心碰一下，几个亿可能就没了。这里面装的就是目前世界上最高端的EUV光刻机，华为就是因为这个被卡了脖子，单台售价1.3亿美元，比波音737客机还要贵，全世界只有一家公司能够生产这种高端光刻机，就是荷兰的阿斯麦尔。那为什么只有荷兰能够制造出如此高端的光刻机呢？日本，德国，美国这些传统的 科技 强国，为啥就不行了呢？
我们先把视角从阿斯麦尔，拉到全球芯片业两大巨头的竞争。英特尔的新CEO基辛格，才刚刚上任就剑指台积电，他强调台湾是一个不稳定的地方，台积电一边争取美国的补助，一边却把最先进的产品留在台湾制造，他呼吁美国政府要重振自家芯片产业。他口中的自家人，就是英特尔。
而英特尔与台积电之间的对决，真正的重点就在于EUV光刻机。目前台积电在光刻机的数量与经验方面，都对英特尔保持领先。我们假设台积电和英特尔用相同的速度购买新设备和研发新技术，那么台积电就能一直保持对英特尔的领先地位，英特尔永远无法翻身做大哥。
芯片产业可以说是目前全球最重要的产业，这两年受到缺芯影响，很多电子产品以及 汽车 等需要用到芯片的产品，都有涨价的现象。现在的世界已经离不开芯片的计算。而影响芯片产业强弱格局的关键因素，就是阿斯麦尔生产的EUV光刻机。
EUV光刻机到底是一台什么样的机器？阿斯麦尔又是一家怎样的公司呢？想要了解这些东西，我们得先从芯片的制造过程谈起。所谓的芯片，还有另外一个名字叫做集成电路，一个指甲盖大小的芯片上面就能堆放上百亿个晶体管。几乎所有的电子产品都需要它，才能正常运转。
芯片的制造就像是盖房子，首先第一步是要先规划出房子的设计图，芯片工程师会根据芯片要有的功能，画出相对应的电路图，有了电路图之后，还要有地方堆放电子元件，就像是我们盖房子，必须要先有块地皮一样。而这个地皮就是晶元，有了晶元之后，要如何把电路设计图缩小并印上去呢？答案是靠光。透过紫外光把设计图缩小到晶元上面，一个晶元的最终品质如何，这一步非常关键。接下来晶圆还要再封装一个绝缘的外壳，到此芯片的生产就算是完成了。
上面我们说过：光刻是芯片品质的关键，换句话说就是谁能得到最先进的光刻机，谁就能在芯片竞赛中超越对手。那最优秀的光刻机要找谁买呢？当然就是阿斯麦尔，而且全球仅此一家。虽然光刻机市场上不止阿斯麦尔一家，还有日本的佳能和尼康，但日本的光刻机只能在低端领域混，高端光刻机只有阿斯麦尔能够制造。那为什么只有阿斯麦尔能够制造出最高端的光刻机呢？日本，德国，美国这些传统 科技 强国哪个不比荷兰要强。
阿斯麦尔的EUV光刻机单台造价1.3亿美元，为什么这么贵呢？因为它几乎是融合了当前全人类的最高智慧结晶，想要完成一台EUV光刻机的制造，需要集结全球10多家顶级公司才能做得到。可以这么说，目前不存在哪家公司可以单独搞定全部零配件，EUV光刻机是建立在一条极度精密的产业链之上的，每一个关键零配件单独拿出来，谁能做好谁就是那个领域的世界顶尖。
反射镜是由德国的蔡司生产，对镜片光滑度的要求简直达到了逆天的级别。假设一个反射镜面跟德国面积一样大，那么镜片上最高的凸起也不能超过1厘米。阿斯麦尔的优势就在于，它牢牢掌控了整个产业链，光源来自美国，镜片来自德国，一台光刻机涉及多个 科技 强国的10多家顶级公司。之所以是荷兰的阿斯麦尔能够做到这件事，而不是日本，德国，美国的公司，这个是有 历史 原因的。
早期的光刻机出现在60到70年代，那时候的制程工艺远没有今天这么强大，光刻机的技术要求也相对较低，大多数搞半导体的公司，自己稍微加把劲都能做出来。在日本半导体行业快速崛起时，日本的佳能和尼康便顺势进入光刻机市场，并取得了非常好的成绩。再往后美国举全国之力打压日本半导体行业，逼迫日本签订了一系列协议，就和现在针对我们中国华为是一样的 ，唯一不同的是我们没有选择低头认怂。
此时的阿斯麦尔还是飞利浦旗下的一个小公司，全公司上上下下才30人，因为不赚钱后来被独立出来单独发展，其实也就是被抛弃了。在打压日本的同时，美国也需要扶持新的替代者，这时候阿斯麦尔因为押宝台积电林本坚提出的浸润式显影技术，让光源技术突破极限，这个坚持给阿斯麦尔带来了转机。
在美国的扶持下，多家顶级公司对阿斯麦尔提供技术帮助，供应关键零配件，阿斯麦尔终于制造出最高端的光刻机，从此独霸全球市场。我们熟悉的半导体大厂，英特尔，三星，台积电都是阿斯麦尔的股东，他们之间有着非常紧密的关联，这也是为什么美国不让台积电给华为代工，台积电就要乖乖听话，让阿斯麦尔不卖先进光刻机给中芯国际，中芯国际就只能干瞪眼的根本原因。因为阿斯麦尔是美国一手培养起来的。
至于我们究竟什么时候能造出最先进的光刻机？这个问题的答案不好说，但总之不会是最近几年，即便华为重金研发，也不可能在短期内赶上，那么多家顶级公司几十年甚至百年的技术积累，需要我们国内多个行业，众多公司一起努力，才有可能在未来的某个时间点，追赶上最先进技术。虽然不是近几年，但我相信这一天并不会太遥远。
