掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来,ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者,并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件,它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区,有60家ASML公司的主要产品是光刻机,这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额,14nm工艺以下市场份额***。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号,如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。
光刻机的生产国家有荷兰、中国、日本、美国、韩国。相对于其他国家来说,目前的荷兰光刻机的精度为首。
ASML在光刻机生产的大部分零部件都是从国外进口的。专业光刻机检测采用美国技术,也采用蔡司,德国的光学镜头这些都是世界顶尖技术,并不是所有都可以归一个国家所有。光刻机是人类最高智慧的结晶,需要长期的科研投入和技术积累。
光刻机生产厂家是ASML。
自1984年以来,ASML的光刻解决方案便是半导体行业的创新领导者,在如此小的规模上实现了巨大的飞跃。硬件与软件相结合,为在硅上批量生产图案提供了一种整体方法。
在世界16个国家和地区有60阿斯麦公司的主要产品是用于生产大规模集成电路的核心设备光刻机。在世界同类产品中有90%的市占率,在14纳米制程以下有100%的市占率。
扩展资料:
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。
全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。
参考资料来源:asml官网- 历史
参考资料来源:百度百科-ASML
生产光刻机上市公司:ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。
1、ABM
ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。
ABM总部位于美国硅谷,亚太销售服务、维修中心设于中国香港,公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。
2、上海微电子装备有限公司
上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
3、佳能
佳能(Canon),是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团,从1937年成立以来,经过多年不懈的努力,佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。
4、尼康
尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。
参考资料来源:百度百科-ABM
参考资料来源:百度百科-佳能
参考资料来源:百度百科-尼康
参考资料来源:百度百科-上海微电子装备有限公司