中国28nm光刻机最新消息今天（中国28nm光刻机最新消息今天发布）
中国28nm光刻机最新消息今天（中国28nm光刻机最新消息今天发布）
#21天图文打卡挑战（第二期）#
美国对芯片半导体行业展开一轮又一轮的行动，表面上是针对某家企业，但仔细观察就会发现，芯片代工厂台积电也因此失去了很多重要客户。包括众多供应商面临无法出货的情况，导致市场份额受损。
所以芯片规则是相互的，没有人能够置身事外。由于芯片规则，再加上全球公共卫生事件的爆发，一时间芯片紧缺成为了主旋律。芯片行业遭受了史无前例的变局，为了早日恢复芯片市场秩序，台积电展开了一系列的扩产计划。
比如将在南京投资28亿美元，加大28nm成熟工艺芯片产能。
台积电的大陆扩产计划受到一定的质疑，认为台积电在大陆扩产28nm，会挤压大陆芯片制造厂商的市场份额。
实际上在普遍缺芯的情况下，市场无法在短时间内填补。台积电的扩产可以起到一定的缓解作用。为大陆市场提供所需芯片，不过台积电大陆扩产28nm恐怕没那么顺利。
美国又盯上了28nm，台积电，联华电子等岛内芯片制造商在大陆的扩产都受到了阻力。
在过去的一年内，美国多次行动，已经给芯片行业带来较大的破坏。原本繁荣，稳定的芯片供应链在失去某些企业后，至今也没有恢复状态。不过美国并不打算就此收手。
据业内传来消息，台积电，联华电子在大陆扩产28nm的设备没有获得美国的供应许可。因为台积电等厂商想要在大陆扩产28nm需要从海外购买相应的设备，而这些设备大多数是来自美国供应商，或者用上了美国技术。因此给不给用，对方说了算。
另外，台积电若想要将岛内的设备运送至大陆生产芯片，也要获得美国的许可。
需要知道的是，28nm所属的成熟工艺制程需求比高端5nm还要大。中国大部分的消费市场都集中在成熟工艺范围，而28nm在其中又被广泛运用。所以台积电，联华电子以及中芯国际选择扩建28nm生产线，是有原因的。
这部分的市场前景和需求都非常高，随着中国消费市场的发展，各大巨头都开始扩展相关业务。
美国连28nm也要卡，面对这类主流的成熟工艺，美国再次阻碍台积电等厂商的扩产行动。
没完了？美国接二连三的行动，什么事情几乎都想要掺一脚。对方之所以无所顾忌，实际上在于掌握了基础的核心技术。美国技术遍布芯片行业，想要避开，就需要从根源上出发，调整供应链体系，打造属于国产化的芯片产业。
美国限制台积电在大陆采购成熟工艺芯片制造设备，行动目标不只是台积电，更是要阻碍大陆28nm成熟工艺市场的发展。
因为这部分的市场中国大陆制造商可以顺利参与，等将来形成足够的市场体系，并进一步扩大国际影响力，量变也会引起质变。
美国没完没了，一次又一次的行动，国产芯必须实现自给自足。加快核心技术的研发，提升国产供应链的实力，用自主供应替代国外技术，只有这样，才能打破国外的限制。
美国在28nm展开行动，只要努努力，中国打造纯国产28nm供应链并非不可能。在28nm制程领域，中芯国际已经实现了14nm的量产，更别说28nm了。
还有上海微电子也传来年底交付28nm光刻机的消息，中国电子 科技 集团旗下装备集团攻克了关键技术，离子注入机实现28nm制程的全谱系产品国产化。还有晶瑞股份也在加快28nm高端光刻胶的研究。
这一系列聚焦28nm的研发攻克，都势必打破国外垄断，美国想要卡脖子，只会让中国加速崛起。
对此，你有什么看法呢？
众所周知，在芯片半导体领域，除了芯片是至关重要的，还有一些设备的重要性比起芯片来，也是丝毫不差的，若是没有这些设备，芯片的制造那就无法进行。
在此之前，我国之所以无法提高芯片制造的产能和技术水平，那就是因为这些设备都是为国外的企业垄断了，限制了我国的芯片半导体产业的发展。
为了改变这一现状，我国的，芯片半导体企业、科研机构与国内高校三方联手，倾力合作，立志要将生产制造芯片的所有有关的设备都研究开发出来，势必要让我国的芯片半导体企业摆脱国外的制约，打破国外企业的垄断。
正是在这种大环境下，那些被国外垄断的设备技术接连不断地传来破冰的喜讯。光刻机领域的突破，更是令国内的芯片半导体企业兴奋不已，要知道在光刻机领域，一直是由荷兰的阿斯麦公司所垄断，实质是由美国所掌控。其公司旗下的EUV光刻机是当今全球最为先进的光刻机。
如今，我国的上海微电子将光刻机实现了国产化，虽然只是28nm光刻机，比起荷兰的7nmEUV光刻机有些差距，但也是极其良好的开端，以后自然会实现高端光刻机的国产化。
此外，还有一些设备迎来了重大突破，比如，中国电科的28nm全谱系离子注入机，南大光电的Krf高端光刻胶，这些和上海微电子的光刻机一般，都是在28nm的精度水准。不过此时仍是28nm及其以上芯片的主流市场，所以说这些中低端设备的突破是有着极大的意义和作用的。
在这些中低端设备频繁传来喜讯之后，高端的设备也是不甘人后，同样传来了喜讯。近日，至纯 科技 公司正式官宣，14nm与7nm的湿法设备将于明年正式落地，并且该公司已经决定，将湿法设备供应给华为和中芯国际，这无疑将会给华为和中芯国际带来巨大的好处。
值得一提的是，中微半导体也实现了高端设备的突破，其研制的5nm刻蚀机已经实现国产化，并且总体性能不比国外的差。
在设备领域的不断破冰，给国人带来了极大的鼓舞，让国人相信我国的芯片半导体产业一定会达到乃至超越国际先进水平。
为了更好地集中优势资源，优化资源利用，我国在上海成立了总投资高达5000亿的东方芯港，从材料、技术以及设备等多个细分领域入手，从而促进中国芯的快速发展。
据悉，上海已经开始在3nm等先进半导体领域加大研究投入，给相关的先进芯片设备制造以及先进芯片研发的企业更过的政策扶持。这就吸引了华为、中芯国际、上海微电子以及中微半导体等国内顶尖 科技 类企业竞相入驻。
相信在国家的牵头下，得到更多政策扶持国内芯片半导体企业，将会更加注重于先进芯片的研究开发以及先进设备的研制。
如今中国的中低端产能已经达到了一个前所未有的高度，所以不用担心此时加大力度进军高端芯片领域而忽视中低端芯片领域。日产10亿颗以及单月399亿颗芯片产能，满足目前国内的芯片需求已是绰绰有余。
此时的中国已经完全不必担心中低端芯片产能不足了，所以自然就将重心慢慢向高端领域转移，以求缩短与国际先进水平的差距。
看到中国如此不遗余力地进行先进芯片以及先进设备研究开发，台积电的心算是彻底的慌了，甚至已经想到数年之后，中国实现了芯片的自给自足，无论低、中、高三种级别的芯片，还是各种生产制造芯片设备，都是具备齐全。
台积电作为全球最先进的芯片代工企业，占据着全球将近一半的市场份额，除了美国的订单外，基本上来自中国，若是中国真的实现了完全的自给自足，那么台积电自然要损失很大。
这是中国在经历制裁后，坚定不移要走的道路，谁也无法阻拦，如今的中国芯已经在中低端领域稳住根基，自然要全力占据高端领域。对于中国芯片领域的强势崛起，台积电始料未及，更是无法阻挡。
一、热点消息
今年，我国半导体产业已有不少好消息陆续传出。
被提及最多的光刻设备方面，近来有消息称上海微电子即将于
2021年交付首台国产的 28nm 光刻机。
再来看，之前的美国的制裁吧：
5月12日，美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件，要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路，同时启用“无限追溯”；5月15日，美国商务部产业安全局将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日，要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。
二、形势不容乐观，但是28nm够用么？
很多人默默地打开了自己刚刚购买的新电脑
查看配置，处理器选项。
什么！才28nm，老子的锐龙处理器都7nm了，
停停停，先听我说完
或许在许多人看来28nm制程工艺相比7nm还相差甚远，
但实际上是一个分界点，
像是物联网、家电、通信、交通、航空航天等领域，已能满足
那就是满足了市场上的大部分需求。
从2019年全球晶圆代工产能分布，
包括我国每年进口的3000亿美元芯片中也可以看到，
28nm以上制程才是主流。
所以，这意味着
一旦完全掌握28nm芯片制造技术，我们很大程度上就能满足国内发展所需。
现在知道了吧，这比自己玩得爽的手机、电脑可不一样。
三、我们的芯片大多来自哪里？
1、我们拿货真多，却不能自给
根据第三方数据，仅2019年我国的芯片进口额就突破千亿美元，
作为全球最大的芯片进口国。
但是，我国每年的芯片自给率却不足30%。
2、谁掌控了这芯片
为了改善这一局面，不少企业投身芯片行业，但在芯片制造领域却很难有突破，
其中，最最主要的拦路虎，就是大BOSS“光刻机”
而在光刻机领域，荷兰ASML是当之无愧的巨头。
在华为被接连的芯片被动挨打中，他们俩的名号也算了普及到很多人了。
全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML ，
大家记住哈~它是唯一的，
而且还每年限制产能，所以想给谁，想多少钱给，它说的算。
四、我们得自己造呀
1、放心，已经再造了
今天只说他们家。
好在，经过十余年的发展后，我国在光刻机领域也诞生了一位新巨头。
上海微电子装备有限公司，2002年开始生产研发光刻机
在短短18年里，他们创下了3200项专利，
成功打破技术封锁，造出中国最先进的光刻机，
目前，已经实现90nm光刻机的量产。
哎！反正你们看不上，
那不如我再多说一点。
2、那什么水平？
只相当于荷兰ASML15年前的水平！
但是，
ASML光刻机的技术虽然先进，但集结了以美国为首的多国结晶，
例如美国的光学设备、德国的蔡司镜头。
多达5万多零部件，也大多依赖进口。
上海微电子，生产的光刻机设备却是自主研发和创新。
民族热情高涨，来点掌声！
3、怎么解读这28nm
对内：政府的扶持（列入国家863重大 科技 攻关计划，国家重大 科技 专项02的项目之一），
对外：《瓦森纳协定》对华高 科技 出口管制。
与ASML的众星捧月不可同日而语。
公司高层在接受采访时表示：
“2007年，当光刻机的第一束光曝出来时，我们都热泪盈眶。”
“没有人才团队，没有技术积累，没有配套的供应链。
西方国家对这一技术限制很多。”
目前，团队还在超1000个技术与管理人才的共同努力下，全力追赶ASML，
而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻，请多给一点时间！
虽然即便是28nm技术。
但倘若28nm沉浸式光刻机可顺利交付，
这将把我们的芯片事业推进到一个崭新的高度。
未来可期，未来可待！
近日，有传言称，全国产28纳米产线已经量产，为华为代工的芯片也已经流片成功, 这可能吗？
中芯国际有28纳米生产线，都基本都是美国或者其它国家的半导体生产设备，这肯定受制于人，所以，纯国产的28纳米生产线当然好，其中最重要的是光刻机。
按照上述传言的说法，那就是中国研发成功了28纳米光刻机。实际当然不是如此。中国光刻机技术最强的上海微电子，目前只研发出90纳米的光刻机，一直想研发制造28纳米芯片的光刻机，预计2021年会交货，但最起码2022年才能在芯片厂达成量产。即便如此，上海微电子的这个光刻机技术也不能完全“去美”化。
但为何会有中国研发成功28纳米光刻机的传言呢？是因为最近有另外一个传言，即中国最大电子企业集团公司之一、中国电科推出了28纳米离子注入机，名称像是针对28纳米生产的，但离子注入机和光刻机还不是一回事。
决定芯片良品率高低的因素有很多，最重要的光刻机，而光刻机的一个环节又是离子注入环节。而在离子注入环节中担任“总指挥”的是离子注入机。
离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预定方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说，离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。
我国以前在离子注入机技术方面也很差，这就对光刻机的研发有很大制约，所以，搞定了28纳米离子注入机技术，对研发28纳米光刻机有利，但不能等同于光刻机。
一个光刻机最起码几万个零部件，据悉，离子注入机技术只占光刻机技术的3%左右。
