中国产光刻机吗（中国量产的光刻机）
中国产光刻机吗（中国量产的光刻机）
中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
在光电所的努力下，中国的光刻机研制跳出了缩小波长、增大数值口径来提高分辨力的老路子，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术，也为超分辨光刻装备提供了理论基础。
扩展资料：
利用超分辨光刻装备，项目组为航天科技集团第八研究院、中科院上海℡☎联系：系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西二院、重庆大学等多家单位制备了一系列纳米功能器件。
包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了超分辨光刻装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。
参考资料来源：光明网——我国新一代超分辨光刻机通过验收
中国的光刻机现在达到22纳米。在上海℡☎联系：电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海℡☎联系：电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。
以我国现在的实力当然有能力生产光刻机。在很早以前，中国上海℡☎联系：电子SMEE就已经生产了SSB500/10A型号的光刻机产品，并且已经交付使用，不过，目前中国能够量产的光刻机性能最好的是90nm光刻机，和荷兰ASML公司最先进的5nm光刻机仍有着巨大的差异，然而制造先进光刻机技术的封锁，那我们还无法学到难道更为先进的光刻机技术，以致于现在国内所需要的高端光刻机也只能依赖进口。
现在，在高端光刻机领域荷兰ASML一直霸占了龙头老大的位置，他们生产的光刻机占据了市场份额的80%左右，可以说近乎垄断了高端光科技的市场，目前在世界上最先进的EUV光刻机也只有ASML能够生产，而这种光刻机的售价高达1亿美元一台，无论是Intel还是台积电所需要的14nm光刻机，都需要从他们这里购买。
