光刻机新技术有哪些公司（光刻机新技术有哪些公司上市）
光刻机新技术有哪些公司（光刻机新技术有哪些公司上市）
光刻机国产排名第一的是上海℡☎联系：电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海℡☎联系：电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海℡☎联系：电子，所以上海℡☎联系：电子排名第一。
上海℡☎联系：电子公司简介：
上海℡☎联系：电子是半导体行业的上市公司，公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发，生产销售与服务，IC制造与先进封装，MEMS ，TSV/3D，TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候，全方位，全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
一、晶方科技
荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一，是一家致力于开发与创新新技术，为客户提供可靠的，小型化，高性能和高性价比的半导体封装量产服务商。注于技术创新和提供优质量产服务的领导者。创新是我们最大的资源
二、安集科技
公司光刻胶去除剂的核心技术包括光阻清洗中金属防腐蚀技术、光刻胶残留物去除技术。
三、华懋科技
是国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业，是国际上先进的EUV光刻胶单体发明者、生产者
四、南大光电
公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。公司与国内外重要的集成电路、LED优秀企业形成良好的合作关系。
五、赛℡☎联系：电子
公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。公司以半导体业务为核心，主营业务是MEMS芯片的工艺开发及晶圆制造，GaN外延材料研发生产及芯片设计。
六、格林达
公司产品主要用于 LCD 显示面板制造中基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶的显影和剥离、电极的蚀刻等。是一家专业从事定制湿电子化学品及其配套服务与解决方案的高新技术企业，其主要客户涵盖平板显示、光伏面板、芯片制作等领域
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。
目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
